Hoge stabiliteit Arc Spark optische emissiespectrometer voor Non-ferro Matrix

• Warranty: 1year
• testbasis (multi-base): analyse fe,al ,cu, ni ,co ,mg, ti, zn, pb, sn, ag
• analyse van band (breed bereik): 160 ~ 850 nm
• detectietijd (korte tijd): afhankelijk van verschillende soorten monsters, over het algemeen minder
• optische kamer (afwerktemperatuur): 38 °c±0.2 °c.
• Transportpakket: Wooden Package
• Model NR.: W4
• Handelsmerk: wuxi jinyibo
• Oorsprong: Jiangsu Wuxi
• Productiecapaciteit: 30 Sets/Month

Beschrijving

W4 optische emissiespectrometer (Arc/Spark-OES)
Economische en eenvoudige metalen analyser
Specificatie:
CMOS-uitleessysteem met hoge resolutie
Lage totale eigendomskosten
Vacuümoptiek voor snelle stabilisatie
Ongeëvenaarde analytische prestaties en betrouwbaarheid
Uitstekende stabiliteit op de lange termijn
Intelligent ontwerp, modulair ontwerp
Ferro- en non-ferromettoepassingen
Gebruiksvriendelijk met volledige pc-bediening
Gebruiksvriendelijke interface

Samenvatting:
W4 Spectrometer is het meest geschikte instrument voor de bepaling van verschillende elementen in verschillende matrices (Fe, Cu, al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, PB, Sn, AG, etc ). Het is een economische en eenvoudige oplossing voor snelle analyse in de buurt van de oven, kwaliteitsanalyse van metaalmateriaal, onderzoekslaboratoria en identificatie van metaalkwaliteit
Dit geeft de gebruiker ook een werkelijk economische spectrometer die zowel makkelijk te gebruiken als makkelijk te ruimtebesparend is. Het optische systeem maakt gebruik van een CMOS-detector met een spectraal bereik dat alle gebruikelijke materialen omvat. Het kan nauwkeurig en betrouwbaar analyseren van elementen op laag niveau tot elementen met hoge inhoud.

Toepassingen:
Staalfabrieken waar de behoeften rond de 100 PPM liggen of elementen zoals C, CR, S, P, enz.
Walserijen, gieterijen, workshops: Snelle analyse; test dagelijks een paar honderd-en-honderd monsters
Fabrikanten van legeringen: Elk aantal bases / matrices; zeer stabiel en nauwkeurig
Testlaboratoria: Commerciële testlaboratoria, universiteiten en hogescholen
Gieterijen die een snelle analyse nodig hebben in de buurt van de oven
Materiaalidentificatie van het magazijn
Basis: FE, Cu, al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, PB, Sn, AG, enz.
Parameter:

Item		Index
Optisch systeem	Brandpuntsafstand	350 mm
	Golflengtebereik	165 nm-589 nm (uitbreidbaar)
	Detector	CMOS Multi-detectoren met hoge resolutie
	Lichtkamer	Argon-cyclusvulling
	Pixelresolutie	30:00 uur
	Roosterleiding	3600 m1/mm
	Spectrale lijndispersie van de eerste orde zeldzaam	1,2 nm/mm
	Gemiddelde resolutieverhouding	10 pm/pixel
	Volledig spectrum
	De temperatuur in de lichtkamer wordt automatisch geregeld
Vonkbron	Type	Digitale boog- en vonkbron
	Vonkfrequentie	100 HZ
	Ontlaadstroom	1-400 A
	Ontstekingsspanning	>15000V
	Bekrachtigingslicht	Optimalisatie van het ontwerp van ontlaadparameters
		High Energy-voorverbrandingstechnologie HEPS
	Processor	Snelle acquisitie en verwerking van gegevenssynchronisatie
Vonkstandaard	Elektrode	Wolfraamelektrode-technologie
	Make-up	Zelfcompensatieontwerp voor thermische vervorming
	Argon spoelde met een minimale consumptie van Argon
	Technologie van de elektrode voor sproeiontlading
	Instelbare elektrodetechnologie
Andere	Meetbare elementen	FE, al, Cu, Ni, Ti, Co, Zn, Sn, mg, PB , enz.
	Afmeting	714 mm (L)*558 mm*270 mm (H)
	gewicht	Ongeveer 40 kg
	Opslagtemperatuur	0ºC-45ºC
	Bedrijfstemperatuur	10ºC-35ºC, 23±2ºC wordt aanbevolen
	Vermogen	AC220V/50Hz (aangepast)
	Stroomverbruik	Excitatie: 400 W/stand-by: 50 W.
	Argon kwaliteit	99.999%, argon druk>4 MPa
	Argon consumptie	5 l/min tijdens vonkmodus
	Interface	Ethernet-gegevensoverdracht op basis van DM9000A

Verpakking en verzending