De Machine van de Deklaag PVD

CJ het Magnetron dat van de reeks de Machine van de Vacuü MDeklaag sputtert


Operationeel principe:

Het werkende principe van magnetron het sputteren van reeksCJ magnetron dat de vacuü Mmachine van de membraanplaat sputtert: Het zogenaamde „sputteren“ gebruikt het energieke deeltje (het gas positieve ion wordt gebruikt over het algemeen) om het voorwerp te bombarderen om het fenomeen van het oppervlakteatoom van de doelstelling te veroorzaken die van de ouder ontsnapt. Zover terug als 1842, had het Bosje dit fenomeen in het laboratorium gevonden. Het magnetron sputterende doel keurt het statische elektromagnetische gebied goed, dat kromlijnig is, terwijl het vliegtuigdoel en het cilindrische doel het eenvormige elektrische gebied en logaritme elektrisch respectievelijk veld goedkeuren. Onder effect van het elektrische veld, zal het elektron met het argonatoom tijdens het versnellen van het vliegen aan het substraat in botsing komen. Wanneer het elektron genoeg energie (ongeveer 30ev) heeft, zal Ar+ worden geï Oniseerdm en het elektron zal worden geproduceerd en vlieg aan het substraat; Onder effect van het elektrische veld, zal Ar+ het vliegen aan de kathode (het sputterende doel) versnellen en zal de oppervlakte van het doel met hoge energie bombarderen en zal doel het sputteren maken

Toepassingen:
Het wordt wijd gebruikt in elektrisch apparaten, horloge & Klok, golfhoofd, kunsten en ambachten, speelgoed, lichtenreflectors, de instrumentatie van het telefoontoetsenbord de huisvesting en, plastieken, glas, keramiek, tegels en andere de film van de oppervlakte decoratieve deklaag en functionele deklaag van hulpmiddel en vorm. Het heeft de onvervangbare voordelen op gebied van met een laag bedekte ultra-zwarte film, gouden decoratiefilm en geleidende film

Eigenschappen:
1) de de Goede controleerbaarheid en herhaalbaarheid van de filmdikte. De vooraf bepaalde dikte van film kan betrouwbaar worden met een laag bedekt, en de sputterende deklaagfilm kan met de eenvormige laag van de diktefilm op de grote oppervlakte worden verkregen;
2) Sterke adhesie van de film en het substraat. Enkele hoge energie van de gesputterde atomen produceert de verschillende graad van weerslagfenomeen, die een laag van pseudo-verspreidingslaag vormt die atomen sputterde aan de substraatatomen elkaar worden gesmolten;
3 die) bereid een film voor door speciale materieel wordt gemaakt, kunnen de verschillende materialen worden gebruikt om een gemengde film en samenstellingsfilm te sputteren en voor te bereiden, en ook kan een imitatie gouden film van het Tin worden gesputterd;  
4) de Hoge zuiverheid met filmlaag, zal de het sputteren filmlaag niet gemengd worden met componenten van het materiaal van de smeltkroesverwarmer
4) het is uitgerust met een hulp ionenstraalbron bij lage temperatuur, een direct koele laag de film bij kamertemperatuur zonder het verwarmen, een energie - besparing en de productiviteitsverbetering