Magnetron Sputtering Coating Materials met verschillende Sputtering targets

Type: Alloy Target
Vorm: Bord
certificaat: ISO
Transportpakket: Vacuum Packaging
Specificatie: Dia25.4mm, 50.8mm, 101.6mm etc
Handelsmerk: RongSin

Neem contact op met de leverancier

Fabrikant/fabriek, Handelsbedrijf
Gouden Lid Sinds 2022

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Guangdong, China

Basis Informatie.

Oorsprong
China
Productiecapaciteit
500tons/Month

Beschrijving

Productbeschrijving Sputtering doel Een sputtering doel is een materiaal dat wordt gebruikt om dunne films te maken in een techniek die bekend staat als sputter depositie, of dunne film afzetten. ... Als gevolg daarvan zijn de meeste sputterende doelmaterialen metalen elementen of legeringen, hoewel er enkele keramische targets beschikbaar zijn die geharde dunne coatings voor diverse gereedschappen creëren.  
Doel van het sputteren van oxiden
Age2O Al2O3 AZO
B2O3 BaxSr1-xTiO3 BaFe1219
Bao BaTiO3 Bi2O3
Bi2Se3 BiFeO3 Ca5(PO4)3(OH)
CAO Cd2SnO4 CDO
CoFe2O4 COO Co3O4
Cr2O3 CR/SiO CUO
Cu2O CuAlO2 DyFeO3
Dy2O3 Fout 2O3 Eu2O3
 
Fe2O3 Fe3O4 GeO2 In2O3 In2O3/Ga2O3/ZnO
In2O3/ZnO LaMnO3 LaNiO3 LaxSryMnO3 Li3PO4
LiCoO2 Levenstijd4 LiMn2O4 LiNbO3 MgAl2O4
MNO MnO2 MO2C Moo3 NiFe2O4
NIO PbTiO3 PbZr0.52Ti0.48O3 Sc2O3 Sno
SnO2 SrTiO3 TeO2 V2O5 VO2
WO3 Y3Fe5O12 ZnO ZnO+Al2O3 YSZ (ZrO2/Y2O3)
ITO IZO AZO IAZO IGZO
GZO FTO Y2O3 ATO (Sb2O3/SnO2) LaAlO3
Sulfiden-sputtering-doel  
Sb2S3 Bas Bi2S3 CD's CAS
Cr2S3 Klant Ges In2S3 Fes
PBS MGS Mns MOS2 SiS2
TaS2 Sn S2 WS2 ZnS Ag2S
As2S3 NBS Li2S Li3PS4  
Doel voor het sputteren van fluoriden  
AlF3 BaF2 CaF2 CdF2 CeF3
CSF CrF3 DyF3 Fout F3 GdF3
HfF4 Lif LaF3 MgF2 MnF2
SmF3 Na5Al3F14 Naf SrF2 TbF3
ThF4 SnF2 TiF3 YbF3 YF3
ZnF2 ZrF4 PbF2    
Tellurides Sputtering Target  
Alte Sb2Te3 Bi2Te3 CdTe Ga2Te3
Gete In2Te3 PbTe MnTe Mote2
NbTe2 Nite TaTe2 SnTe WT2
ZnTe Li2Te      
Doel voor sputtering van zuiver metaal  
Aluminium Antimoon Barium Bismut Boor
Cadmium Calcium Cerium Chroom Kobalt
Koper Dysprosium Erbium Europium Gadolinium
Germanium Goud Koolstof Hafnium HOlmium
Indium Iridium Strijkijzer Lanthaan Lood
Lithium Lutetium Magnesium Mangaan Molybdeen
Neodymium Nikkel Niobium Palladium Platina
Praseodymium Rhenium Rodium Samarium Scandium
Selenium Silicium Zilver Tantalium Tellurium
Terbium Thulum Tin Titanium Wolfraam
Vanadium Ytterbium Yttrium Zink Zirkonium
Lichtmetalen doelen  
Alb Alcr AlMg Alsi Alti
AlZr CofE CoFeB CrGe Cuse
Cu2Se FeCral FeMn Fet FeZr
GaSb HfSi InSb NiCr NiCral
NiCrSi NICU NiMn NiTi NIV
NiZr Scal Language Tamo SnZn
Tial TiAlV TiAlSi Tico Tin
TIW ZNAL ZnCu GuinGaSe Auge
AuTi AuCu Ausn AuNi AgCu
SnagCu IrMn IrPt PtMn  
Nitrides Sputtering Target
ALN BN Cr2N
HFN NBN Si3N4
Bruin Tin ZrN
Carbide Sputtering doel  
B4C Cr3C2 HFC
Fe3C MO2C NBC
SIC TAC TIC
WC VC ZrC

Stuur uw aanvraag naar deze leverancier

*van:
*naar:
*bericht:

Voer tussen 20 tot 4000 karakters.

Dit is niet wat je zoekt? Plaats Nu het Verzoek tot Scourcing

Zoek vergelijkbare producten op categorie

Startpagina leverancier Producten Altri Magnetron Sputtering Coating Materials met verschillende Sputtering targets

Misschien Vind Je Het Leuk

Neem contact op met de leverancier

Gouden Lid Sinds 2022

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Fabrikant/fabriek, Handelsbedrijf
Maatschappelijk Kapitaal
5000000 RMB
Plantengebied
501~1000 Vierkante Meter