Yixing Balen Optoelectronic Material Co., Ltd.

Yixing Bailun Optoelectronic Material Co., Ltd. werd in 2007 opgericht in Zhoutie Town, Yixing County, Jiangsu County, China, met het geregistreerde kapitaal van ongeveer 15 miljoen RMB Yuan. Het bedrijf beslaat een oppervlakte van 40, 000 vierkante meter en het fabrieksgebied is meer dan 8, 000 vierkante meter. Het is handig om de fabriek te bereiken met de Xiyi snelweg in de buurt. Als joint venture van Sino - Singapore is het bedrijf gespecialiseerd in het onderzoeken, ontwikkelen en produceren van sputtering. De alumina-dooped zink o xide AZO, GZO, ZnO en ITO-sputtering targets zijn onze belangrijkste producten.

Het bedrijf heeft meer dan 40 werknemers en technici in dienst en beschikt over een geïntegreerde en geavanceerde productielijn. Geavanceerde productieapparatuur, geavanceerde testapparatuur, hoogwaardige mensen en een wetenschappelijk beheerssysteem garanderen de hoge kwaliteit en prestaties van onze producten.

We gebruiken nieuwe technologie die gelcasting en sintering noemde om sputterende doelen te produceren. Met deze nieuwe technologie kunnen we niet alleen de structuur van de sputterende doelen heel gelijkmatig en nauw maken, maar kunnen we ook de fouten in de sputterende doelen tot bijna nul reduceren. Door de nieuwe technologie kunnen we alle soorten sputtering targets eenvoudig leveren, zoals de plaat, cilinder etc., kunnen we ook de supergrote maat en hoge precisie sputtering targets produceren om aan de speciale eisen van de klant te voldoen.
Nu kunnen we de sputterende doelen als volgt voorzien van de karakteristieken:

AZO
de praktische dichtheid is meer dan 5,50g/cm3,
de zuiverheid is meer dan 99.99%,
de relatieve dichtheid is meer dan 99%.
De maat is als volgt:
De plaat sputtering target:
Alle afmetingen binnen 600*300mm*20mm
de cilinder sputtering target:
De diameter: 50-400mm
de dikte: 5-15mm
de hoogte: 50-500mm.

GZO
de praktische dichtheid is meer dan 5,50 g/cm3,
de zuiverheid is meer dan 99.99%,
de relatieve dichtheid is meer dan 99%.
De maat is als volgt:
De plaat sputtering target:
Alle afmetingen binnen 600*300mm*20mm
de cilinder sputtering target:
De diameter: 50-400mm
de dikte: 5-15mm
de hoogte: 50-500mm.

ZNO
de praktische dichtheid is meer dan 5,50 g/cm3,
de zuiverheid is meer dan 99.99%,
de relatieve dichtheid is meer dan 99%.
De maat is als volgt:
De plaat sputtering target:
Alle afmetingen binnen 600*300mm*20mm
de cilinder sputtering target:
De diameter: 50-400mm
de dikte: 5-15mm
de hoogte: 50-500mm.

ITO
de praktische dichtheid is meer dan 7,05 g/cm3,
de zuiverheid is meer dan 99.99%,
de relatieve dichtheid is meer dan 99%.
De grootte is als volgt:
De plaat sputtering target:
Alle afmetingen binnen 600*300mm*20mm
de cilinder sputtering target:
De diameter: 50-400mm
de dikte: 5-15mm
de hoogte: 50-250mm.

We hebben de capaciteit om allerlei sputterende doelen te produceren 40 ton per jaar. Welkom om ons bedrijf te bezoeken en wederzijdse samenwerkingsrelaties met ons op te zetten. Laten we hand in hand gaan, trouw samenwerken en de toekomst in goede staat brengen!