3n, 80/20crwt%, 60/40 CR gew% nikkel-chroom roterende doelen

• Application: Industrial
• formule: Nicr
• classificatie: Alloy Targets
• certificering: iso, sgs
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-NiCR
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

 

Roterende nikkelchroomtargets worden gemaakt door vacuüm smeltproces en door middel van warm of koud spuitproces.
Platte nikkelchroomtargets worden geproduceerd door vacuüm smelten, rollen, machinaal bewerken en andere processen

Nikkel-chromiumTargets  specificatie
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	Nikkel-chroom
Zuiverheid	3N,80/20Crwt%,60/40 CR wt%,etc
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid	8,4 g/cm3
Smeltpunt	3547ºC
Productie methode	HEUP

Ons voordeel

Proces
Toepassing:
Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al	3 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP,smelten
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
Ni	3N5	-	4.5	1453	90	13	Smelten
TI	3 N.	-	4.5	1668	15.2	9.4	Smelten
ZR	3 N.	-	6.49	1852	0.227	-	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
AG	4 N.	-	10.49	961.93	429	19	Smelten
C	4 N.	-	2.23	3850±50	151	-	HEUP
Tial	3N5	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
InSn	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Gieten
CrSi	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Spuiten
CRW	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	16.7	3017	57	6.3	HEUP
NiCr	3 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
NIV	3 N.	97:3	-	-	-	-	Smelten
WC	3 N.	-	15.77	2870	110	5.5	Sinteren&Spray
Nbox	4 N.	-	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray