• 3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen
  • 3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen
  • 3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen
  • 3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen

3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen

Application: Industrial
formule: Aluminum-Chromium
classificatie: Alloy Traget
kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
certificering: iso
vorm: Rotary,Flat,Round

Neem contact op met de leverancier

Gouden Lid Sinds 2023

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Guangdong, China
om alle geverifieerde sterktelabels te bekijken (14)

Basis Informatie.

Model NR.
CYT-CrAl
Transportpakket
Wooden Box
Specificatie
Customized Size
Handelsmerk
CANYUAN
Oorsprong
China
Productiecapaciteit
1000PCS

Beschrijving

3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
PRODUCTBESCHRIJVING

Het aluminium-chroom roterende doel wordt geproduceerd door middel van spuiten of hete isostatische persen, en kan een maximale lengte van 4000 mm produceren, waarbij de dikte en verhoudingen aangepast zijn aan de wensen van de klant.

De vlakke aluminium-chroom target wordt geproduceerd met behulp van hete isostatische druktechnologie en heeft de voordelen van fijne en uniforme korrelgrootte en een lange levensduur. Het kan doelen produceren met een maximale lengte van 1600 mm en een maximale breedte van 400 mm, met afmetingen en verhoudingen variërend van 100 mm x 100 mm tot 1600 mm x 400 mm.

Aangepast aan de wensen van de klant.

Technische parameters

Zuiverheid: 99.8-99.95%; gebruikelijke verhoudingen: 90-10Siat%, 75-25Siat%, 50-50Siat%, etc.

Toepassingsgebieden: Coating van snijgereedschap van harde legering en hittebehandelingsvormen om de slijtvastheid en de bedrijfstemperatuur van de coating te verbeteren.
We kunnen platte  koper-aluminium en roterende sputtering doelen maken.
Specificatie en zuiverheid kunnen worden aangepast.
De beschrijving en samenstelling van 3N koper 
-aluminium met hoge zuiverheid , zoals hieronder vermeld:
 Specificatie van doelen  
Toepassing PVD-sputtermaterialen
Materiaal aluminium-chroom
Zuiverheid 3N~5N
Grootte aangepast
Dikte aangepast
Vorm Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid -g/cm3
Smeltpunt -ºC
Productie methode smelten en mengen

3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
Ons voordeel
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets


Proces
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets

Afbeelding van verpakking
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets


Toepassing:
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets

Gerelateerd product.
Materiaal Zuiverheid
(N)
Onderdelen
(wt%)
Dichtheid Smelten
 Punt
Thermisch
Geleidbaarheid
(WM-1K-1)
Coëfficiënt van
 uitbreiding
(10-6k-1)
Productie
 Proces
Al-legering 5 N. - 2.7 660 235 23.1 Smelten
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HEUP
Cu 4 N. - 8.9 1084 400 16.5 Smelten
MO-legering 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HEUP
NB 4 N. - 8.6 2477 54 7.3 Smelten
TA 4 N. - 16.7 3017 57 6.3 Smelten
SI 4 N. - 2.33 1414 150 2.6 Sinteren&Spray
TI 5 N. - 4.5 1670 22 8.6 Smelten
W 4 N. - 19.25 3422 174 4.5 HEUP
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinteren
ITO 4 N. 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinteren
GZO 3N5 ZOALS GEVRAAGD 7.15 - - - Sinteren
IGZO 4 N. ZOALS GEVRAAGD - - - - Sinteren
Nbox 4 N. - 4.6 1460 5 1.5 Sinteren&Spray
TIOx 4 N. - 4.23 1800 4 7.14 Sinteren&Spray
 

Stuur uw aanvraag naar deze leverancier

*van:
*naar:
*bericht:

Voer tussen 20 tot 4000 karakters.

Dit is niet wat je zoekt? Plaats Nu het Verzoek tot Scourcing

Zoek vergelijkbare producten op categorie

Startpagina leverancier Producten Doel van legering 3n Hoge zuiverheid Aluminium-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminium-Chromium Roterende doelen

Misschien Vind Je Het Leuk

Neem contact op met de leverancier

Gouden Lid Sinds 2023

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Fabrikant/fabriek
Hoofd Producten
Sputtering Target
Aantal Werknemers
6