3n roterende doelen van nikkel-chroom-silicium/vlakke doelen

• Application: Industrial
• formule: Nickel-Chromium-Silicon
• classificatie: Alloy Traget
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• certificering: iso
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-NiCrSi
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

PRODUCTBESCHRIJVING

Het roterende nikkel-chroom-silicium doel wordt geproduceerd door het vacuüm smelten van nikkel, chroom en silicium grondstoffen met een hoge zuiverheid onder hoge vacuüm, raffinage, en gieten om een nikkel-chroom-silicium legeringen ingot te verkrijgen. De resulterende nikkel-chroom-siliciumlegering

Het wordt gemaakt door thermische verwerking na thermische isolatie van de ingot, en kan ook worden gemaakt met behulp van thermische spuittechnologie. De grootte kan worden aangepast aan de wensen van de klant.

De platte nikkel-chroom-silicium target wordt geproduceerd door het vacuüm smelten van nikkel, chroom en silicium grondstoffen met een hoge zuiverheid onder hoge vacuüm, raffinage en gieten om een nikkel-chroom-silicium legeringen ingot te verkrijgen. De resulterende nikkel-chroom-siliciumlegering

Het wordt gemaakt door thermische verwerking na warmtebehoud van de ingot, en de grootte wordt aangepast aan de wensen van de klant.

TECHNISCHE PARAMETERS

Zuiverheid: 99.9%

Toepassingsgebieden: De display-industrie, de zonne-energie-industrie, de automobielindustrie en andere industrieën.

Nikkel-chroom-siliciumlegering heeft een hoge elektrische weerstand, een goede oppervlakteoxidatieweerstand, hoge temperatuurbestendigheid en hoge sterkte bij hoge temperaturen. Het heeft goede verwerkingseigenschappen en lasbaarheid, en kan op grote schaal worden gebruikt in de metallurgie, de chemische industrie en andere gebieden.

Goud, huishoudelijke apparaten, machinebouw, enz. worden gebruikt als verwarmingselementen, en elektrische apparaten worden gebruikt als weerstandmaterialen.
We kunnen platte  nikkel-chroom-silicium en roterende sputtering doelen maken.
Specificatie en zuiverheid kunnen worden aangepast.
De beschrijving en samenstelling van de analysetabel van 3N nikkel -chroom-silicium met hoge zuiverheid , zoals hieronder vermeld:

Specificatie van doelen
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	nikkel-chroom-silicium
Zuiverheid	3 N.
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid	-g/cm3
Smeltpunt	-ºC
Productie methode	HEUP

Ons voordeel

Proces

Afbeelding van verpakking

Toepassing:

Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al-legering	5 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
MO-legering	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	HEUP
NB	4 N.	-	8.6	2477	54	7.3	Smelten
TA	4 N.	-	16.7	3017	57	6.3	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
TI	5 N.	-	4.5	1670	22	8.6	Smelten
W	4 N.	-	19.25	3422	174	4.5	HEUP
AZO	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Sinteren
ITO	4 N.	90:10	7.15	2000	15	2.0	Sinteren
GZO	3N5	ZOALS GEVRAAGD	7.15	-	-	-	Sinteren
IGZO	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Sinteren
Nbox	4 N.	-	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray
TIOx	4 N.	-	4.23	1800	4	7.14	Sinteren&Spray