3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target voor vacuümcoating

• Application: Industrial
• formule: chroom
• classificatie: Metal Traget
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• certificering: iso
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-Cr
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

 

Het chromium target is een materiaal dat gemaakt is van chroom (CR) dat op het oppervlak van het substraat kan worden afgezet om  de oppervlakteeigenschappen van het substraat te veranderen.

Specificatie van de chromium -doelen
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	Chroom
Zuiverheid	3N5
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterend chromium sputtering doel, Ring type, plaattype, Plat type en buis type
Dichtheid	7,19 g/cm3
Smeltpunt	1907 ºC
Productie methode	HEUP

Ons voordeel

Proces

Afbeelding van verpakking

Toepassing:

Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al	3 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP,smelten
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
Ni	3N5	-	4.5	1453	90	13	Smelten
TI	3 N.	-	4.5	1668	15.2	9.4	Smelten
ZR	3 N.	-	6.49	1852	0.227	-	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
AG	4 N.	-	10.49	961.93	429	19	Smelten
C	4 N.	-	2.23	3850±50	151	-	HEUP
Tial	3N5	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
InSn	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Gieten
CrSi	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Spuiten
CRW	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	16.7	3017	57	6.3	HEUP
NiCr	3 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
NIV	3 N.	97:3	-	-	-	-	Smelten
WC	3 N.	-	15.77	2870	110	5.5	Sinteren&Spray
Nbox	4 N.	-	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray