4n Hoge zuiverheid AG Zilver Sputtering doelplaat /AG Zilver Metalen doel

• Application: Industrial
• formule: zilver
• classificatie: Metal Traget
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• certificering: iso
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-Ag
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

 

De fysische en chemische eigenschappen van zilver zijn stabiel, met een goede thermische en elektrische geleidbaarheid, zachtheid, vervormbaarheid en hoge reflectiviteit. Het wordt veel gebruikt op veel gebieden zoals elektronische en elektrische materialen, lichtgevoelige materialen, chemische en chemische materialen, enz.
Elementair zilver en zilver legeringen kunnen worden gebruikt als reflecterende films, elektrodefilms, draadfilms of doorschijnende films (semi-doorlatende films) in de volgende industrieën: Organische El displays, verlichting, touch screens, dunne film zonnecellen, LED (light emitting diodes)), Low-E glas (bouwmaterialen), optische opnamemedia (BD, DVD, CD, etc.). Hoewel de zilverfolie goede eigenschappen heeft, zoals een lage weerstand en een hoge reflectiviteit, zullen de reflectiviteit en geleidbaarheid afnemen als gevolg van corrosie. Dus we maken meestal andere metalen om een zilverlegering te maken, zodat ze een lage weerstand en een hoge reflectiviteit hebben.
We kunnen vlakke Ag-doelen en roterende sputtering-doelen maken. De beschrijving van de analysetabel voor de samenstelling van de 4N-doelstelling voor zilver met hoge zuiverheid, zoals hieronder:
 

Specificatie van doelen
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	Zilver
Zuiverheid	4 N.
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid	10,5 g/cm3
Smeltpunt	2163 ºC
Productie methode	HEUP

Ons voordeel

Proces

Afbeelding van verpakking

Toepassing:

Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al-legering	5 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
MO-legering	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	HEUP
NB	4 N.	-	8.6	2477	54	7.3	Smelten
TA	4 N.	-	16.7	3017	57	6.3	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
TI	5 N.	-	4.5	1670	22	8.6	Smelten
W	4 N.	-	19.25	3422	174	4.5	HEUP
AZO	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Sinteren
ITO	4 N.	90:10	7.15	2000	15	2.0	Sinteren
GZO	3N5	ZOALS GEVRAAGD	7.15	-	-	-	Sinteren
IGZO	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Sinteren
Nbox	4 N.	-	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray
TIOx	4 N.	-	4.23	1800	4	7.14	Sinteren&Spray