4n Nbo2 doel roterende doelen voor vacuümcoating

• Application: Industrial
• formule: niobiumoxide
• classificatie: Ceranic Traget
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• certificering: iso
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-NbO2
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

PRODUCTBESCHRIJVING

AZO target is een zinkoxide aluminium target, voornamelijk samengesteld uit zinkoxide dat is gedoopt met aluminiumoxide, een N-type halfgeleider. Het sinteren van AZO-target wordt gewoonlijk uitgevoerd met behulp van atmosferische druk sintering, hete perssintering en sintering van de atmosfeer.

De meest voorkomende sintermethode is het sinteren van atmosferische druk; gebruikelijke vormmethoden zijn onder andere droog persen en koud isostatisch persen.

Het AZO-roterende doel wordt gemaakt door koud-drukken en sinteren proces, en is gebonden aan de achterste buis. De grootte kan worden aangepast aan de wensen van de klant.

Het AZOPLANAIRE doel wordt gemaakt door het sinteren van de zwadverlegging en op de achterplaat gegoten. De grootte kan worden aangepast aan de wensen van de klant.

Technische parameters

Zuiverheid: 99.95%, 99.99%; weerstand (20 C): ≤1x10 ohm.cm.

Common ratio: ZnO:Al2O3=98:2 (wt%).

Toepassingsgebieden: Elektroden voor dunne-film zonnecellen, transparant geleidend glas en flexibele films, plasmaschermen, infrarood reflectie en bescherming, en andere velden.

We kunnen vlakke AZO - en roterende sputterende doelen maken.
Specificatie en zuiverheid kunnen worden aangepast.
De beschrijving en samenstelling van de analysetabel van 4N AZO , zoals hieronder:

Specificatie van doelen
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	AZO (ZnO:Al2O3)
Zuiverheid	4 N.
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid	-g/cm3
Smeltpunt	-ºC
Productie methode	HEUP

Ons voordeel

Proces

Afbeelding van verpakking

Toepassing:

Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al-legering	5 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
MO-legering	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	HEUP
NB	4 N.	-	8.6	2477	54	7.3	Smelten
TA	4 N.	-	16.7	3017	57	6.3	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
TI	5 N.	-	4.5	1670	22	8.6	Smelten
W	4 N.	-	19.25	3422	174	4.5	HEUP
AZO	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Sinteren
ITO	4 N.	90:10	7.15	2000	15	2.0	Sinteren
GZO	3N5	ZOALS GEVRAAGD	7.15	-	-	-	Sinteren
IGZO	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Sinteren
Nbox	4 N.	-	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray
TIOx	4 N.	-	4.23	1800	4	7.14	Sinteren&Spray