99.999% Hoge purity al Aluminium Sputtering Target Plate /al Aluminium Metalen doel

• Application: Industrial
• formule: aluminium
• classificatie: Metal Traget
• kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
• certificering: iso
• vorm: Rotary,Flat,Round
• Model NR.: CYT-Al
• Transportpakket: Wooden Box
• Specificatie: Customized Size
• Handelsmerk: CANYUAN
• Oorsprong: China
• Productiecapaciteit: 1000PCS

Beschrijving

 

Aluminium is een zilverwit metaal dat zeer licht is en een goede vervormbaarheid, elektrische geleidbaarheid, thermische geleidbaarheid, hittebestendigheid en stralingsweerstand heeft. Er is altijd een geoxideerd aluminium op het oppervlak van aluminium, omdat aluminium zeer gemakkelijk oxidatie in de lucht kan krijgen, wat aluminium een goede corrosiebestendigheid geeft.
Omdat aluminium goede prestaties heeft en veel kwantiteit heeft, wordt het vaak gemaakt in staven, bladen, folies, poeders, linten en filamenten die veel worden gebruikt in belangrijke industriële gebieden zoals luchtvaart, bouw, auto's en elektrische energie.
Aluminium targets worden voornamelijk gebruikt in de dunne film zonne-industrie, lage-e glasindustrie, flat panel display industrie, optische coating industrie, gereedschap en decoratieve coating industrie, en hoge zuiverheid aluminium targets worden meestal gebruikt in de chip productie en geavanceerde verpakking.
We kunnen vlakke Ni-doelen en roterende sputtering-doelen maken.
De beschrijving van de analysetabel voor de samenstelling van het 4N5-nikkeldoel met hoge zuiverheid, zoals hieronder weergegeven:

Specificatie van doelen
Toepassing	PVD-sputtermaterialen
Materiaal	Aluminium
Zuiverheid	4N5
Grootte	aangepast
Dikte	aangepast
Vorm	Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid	2,7 g/cm3
Smeltpunt	660 ºC
Productie methode	HEUP

 

Ons voordeel

Proces

Afbeelding van verpakking

Toepassing:

Gerelateerd product.

Materiaal	Zuiverheid (N)	Onderdelen (wt%)	Dichtheid	Smelten  Punt	Thermisch Geleidbaarheid (WM-1K-1)	Coëfficiënt van  uitbreiding (10-6k-1)	Productie  Proces
Al	3 N.	-	2.7	660	235	23.1	Smelten
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HEUP,smelten
Cu	4 N.	-	8.9	1084	400	16.5	Smelten
Ni	3N5	-	4.5	1453	90	13	Smelten
TI	3 N.	-	4.5	1668	15.2	9.4	Smelten
ZR	3 N.	-	6.49	1852	0.227	-	Smelten
SI	4 N.	-	2.33	1414	150	2.6	Sinteren&Spray
AG	4 N.	-	10.49	961.93	429	19	Smelten
C	4 N.	-	2.23	3850±50	151	-	HEUP
Tial	3N5	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
InSn	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Gieten
CrSi	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Spuiten
CRW	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	16.7	3017	57	6.3	HEUP
NiCr	3 N.	ZOALS GEVRAAGD	-	-	-	-	Smelten
WC	3 N.	ZOALS GEVRAAGD	15.77	2870	110	5.5	Sinteren&Spray
Nbox	4 N.	ZOALS GEVRAAGD	4.6	1460	5	1.5	Sinteren&Spray