• Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit
  • Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit
  • Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit
  • Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit
  • Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit
  • Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit

Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit

After-sales Service: 2 Years
Warranty: 1 Years
Toepassing: School, Laboratorium
aangepaste: aangepaste
Structuur: Desktop
Materiaal: Roestvrij staal

Neem contact op met de leverancier

Gouden Lid Sinds 2022

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Fabrikant/fabriek
  • Overzicht
  • Productbeschrijving
  • Productparameters
  • Verpakking en verzending
  • Bedrijfsprofiel
  • Onze voordelen
  • VEELGESTELDE VRAGEN
Overzicht

Basis Informatie.

Model NR.
PECVD System
Type
Elektrisch fornuis
model
dm-17mt-pecvd
max. temperatuur
1700 c.
bedrijfstemperatuur
1600 c.
verwarmingselement
mosi2
Transportpakket
Wooden Box
Specificatie
/
Handelsmerk
Dming
Oorsprong
China

Beschrijving

Productbeschrijving

PECVD-systeem  
Het PECVD-systeem maakt gebruik van microgolven of radiofrequenties om het gas dat de atomen van de film bevat te ioniseren om lokaal een plasma te vormen. Het plasma heeft een sterke chemische activiteit en is gemakkelijk te reageren om de gewenste film op het substraat te leggen. Het systeem wordt veel gebruikt om hoogwaardige SiO2-film, Si3N4-film, diamantfilm, harde film, optische film, Koolstof nanotube (CNT), C/C composietmateriaal, SiC coating, grafiet product coating, etc.
 

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films




 

 
Productparameters
 
Model DM-12NT-PECVD DM-14ST-PECVD DM-17MT-PECVD
Max. Temperatuur 1200 ºC 1400 ºC 1700 ºC
Bedrijfstemperatuur 1100 ºC 1300 ºC 1600 ºC
Verwarmingselement Weerstandsdraad SIC MoSi2
Thermokoppel Type K. Type s. Type B.
Temperatuurzone Nummer/diameter/lengte (kan worden aangepast)
Temperatuurnauwkeurigheid ±1 ºC
Nominale spanning AC220V50Hz/60Hz (kan worden aangepast)
Gasregeling Vlotterflowmeter/massaflowmeter
Vacuümsysteem Roterende pomp/Diffusion Pump/Moleculaire Turbo-pomp (optioneel)
RF-vermogen 100 W (optioneel)
Optionele functie Touchscreen/afstandsbediening/computerbewaking
Kan worden aangepast

Verpakking en verzending

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Bedrijfsprofiel

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Onze voordelen

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
VEELGESTELDE VRAGEN

 

V1. Hoe zit het met de after-sales service?
A1. We hebben professionele pre-sales en after-sales afdelingen en kunnen u binnen 8 uur antwoorden
V2. Hoe zit het met de periode van kwaliteitsgarantie?
A2: 2 jaar, exclusief irrationeel werkende en verbruiksartikelen.
V3. Hoe zit het met de kwaliteit?
A3: CE-certificering beschikbaar en twee keer testen voor verzending.
V4.  Hoe zit het met de levertijd?
A4: Verzending binnen 3 dagen voor normaal model . 35 dagen voor aangepast model.
V5. Bent u een fabrikant of een handelsbedrijf?
A5: We zijn een fabriek met 10 jaar ervaring op dit gebied.

 

Stuur uw aanvraag naar deze leverancier

*van:
*naar:
*bericht:

Voer tussen 20 tot 4000 karakters.

Dit is niet wat je zoekt? Plaats Nu het Verzoek tot Scourcing

Zoek vergelijkbare producten op categorie

Startpagina leverancier Producten Lab-oven CVD-fornuis Pecvd-systeem voor het deponeren van SiO2-films van hoge kwaliteit