Benchtop optische emissiespectrometer met hoge resolutie voor metaalanalyse

• Warranty: 1 Year
• functie: monstervoorbereiding, slijpen en polijsten
• golflengtebereik: 130 nm
• vonkfrequentie: 100 hz
• meetbare elementen: fe-basis, al-basis, cu-basis, zn-basis, enz.
• plasmastroom: 1-80 a.
• Model NR.: ES-6L
• pixelresolutie: 22:00 uur
• Transportpakket: Plywood Box
• Specificatie: 600*788*393mm
• Handelsmerk: EBP
• Oorsprong: Zhejiang, China
• Gs-Code: 9024109000
• Productiecapaciteit: 90 Sets Per Month

Beschrijving

Benchtop optische emissiespectrometer met hoge resolutie voor metaalanalyse

De ES-6L spectrometer biedt de ideale prestaties en is geschikt voor het testen van productgaranties en het identificeren van materialen . Deze spectrometer biedt maximaal gemak en maximale betrouwbaarheid op basis van CCD/CMOS-technologie.
ES-6L Spectrometer is het meest geschikte instrument voor de bepaling van verschillende elementen in verschillende matrices( Fe , al , Cu , Zn , Ti , Ni , PB , etc ) . Bij de productie van staal , ruw ijzer , gietijzer , non-ferrometalen leidt een volledig of zelfs gedeeltelijk geautomatiseerde analyse tot een kostenbesparing. Om aan individuele eisen te voldoen zijn modulaire systemen ontwikkeld voor laboratoriumautomatisering. Dit geeft de gebruiker ook een echt draagbare spectrometer die zowel makkelijk te gebruiken als makkelijk te ruimtebesparend is.

De ES-6L spectrometer is een innovatieve oplossing voor metaalanalyse.
Eigenschappen:  
1. Nauwkeurig, betrouwbaar, snel, veelzijdig en betaalbaar.
2. Geoptimaliseerd voor de behoeften van de klant
3. Voltooi de analyse binnen enkele seconden.
4. Extreme gevoeligheid dankzij de nieuwste CCD /CMOS-technologie en software.
5. Golflengtedekking 130nm-800nm, waardoor simultane analyse van maximaal 31 elementen mogelijk is.
6. Beschikbaar voor routinematige analyse van klein monster, diameter van 1 mm tot 8 mm.
7. Humanized ontwerp, dat als een tafelmodel of vloermodel kan worden geconfigureerd met opslagmogelijkheden voor verbruiksartikelen en reserveonderdelen.
Optimale adviesservices die het best bij uw behoeften passen.
9. Gratis ondersteuning van technologie en software-update.
10. Toevoeging van aanvullende analysemethoden zonder enige hardwarewijziging.
Specificatie:
 

Optisch systeem	Optische structuur	Paschen-Runge-steun
	Rowland cirkel van diameter	350 mm
	Golflengtebereik	130 nm - 800 nm
	Detector	Meerdere CCD/CMOS-detectoren met hoge resolutie
	Mate van vacuüm	Automatische regeling binnen 6-15 Pa
	Pixelresolutie	22:00 uur
	Volledig spectrum
	De temperatuur in de lichte ruimte wordt automatisch geregeld
Vonkbron	Type	Digitale boog- en vonkbron/nieuwe plasmagenerator
	Vonkfrequentie	100 Hz
	Plasmastroom	1-80 A.
	Contactspanning	>8000 V.
Vonkstandaard	Argon spoelde met een minimale consumptie van Argon
	Technologie van de elektrode voor sproeiontlading
	Instelbare monsterklem
Andere	Meetbare elementen	FE-basis, al-basis, Cu-basis, Zn-basis, enz.
	Afmeting	600*788*393 mm (LWH)
	Gewicht	65 KG
	Opslagtemperatuur	0ºC-45ºC
	Bedrijfstemperatuur	10ºC-30ºC, 23±2ºC wordt aanbevolen
	Vermogen	AC220V/50Hz
	Stroomverbruik	Excitatie: 700 W / stand-by: 100 W.
	Argon kwaliteit	99.999%, argon druk >4 MPa
	Argon consumptie	5 l/min tijdens
Grootte	Lengte 600 mm, breedte 788 mm, hoogte 393 mm

Kernonderdelen:
 

Nee	Product	Merk	Plaats van herkomst
1	Lineaire array CCD/CMOS	TOSHIBA	Japan
2	Optisch rooster	Zeiss	Duitsland
3	Optische lens	Zeiss	Duitsland
4	Optische vezel	Agilent	Amerika
5	spleet	Lenox laser	Amerika
6	Filteren	TDK	Japan
7	Druksensor	SSI	Canada
8	Magneetklep	Bur kert	Duitsland
9	Lichtbronmodule	EBP	EBP
10	regelmodule van het systeem	EBP	EBP
11	module voor gegevensacquisitie	EBP	EBP
12	Optische vacuümmodule	EBP	EBP
13	Module van de vonksteun	EBP	EBP
14	Systeemsoftware	EBP	EBP
15	Laptop of pc	Lenovo	China
16	Printer	HP	Amerika
17	Standaardmonster	Nationale standaard	China of import

Matrices
·Beschikbaar voor Fe , al , Cu , Zn , Ti , Ni, PB, etc .
Uitleessysteem
. Ethernet-gegevensoverdracht op basis van DM9000A
·Het hoogwaardige Read-out systeem verwerkt de spectrumgegevens vijf keer sneller dan traditionele systemen
Excitatiebron
·Geoptimaliseerde ontstekingsparameters
·Voorvonken met een HEPS·digitale excitatiebron met hoge energie
·Maximaal vermogen: 700 w, stand-by 40 W.
Software                        
·Zeer nauwkeurige analyseresultaten kunnen gemakkelijk worden bereikt . ·Statusmonitor in vonkvorming
·Microsoft Windows 7-besturingssysteem·sterke databasemogelijkheden
·Aangepaste indeling van rapport
Excitatiebron
·Geoptimaliseerde ontstekingsparameters
·Voorvonken met een HEPS·digitale excitatiebron met hoge energie
·Maximaal vermogen: 700 w, stand-by 40 W.
Optisch systeem
·Meerdere detectoren met hoge resolutie
·Paschen-Runge-structuur met volledige golflengte-dekking
·Het besparen van waardevolle analytische tijd en het verbeteren van de nauwkeurigheid en de detectiegrenzen .
·Neem sample-excitatie en geautomatiseerde sample-monitoring technieken in de gaten .

Elektrische en omgevingsvereisten:

Spanning	AC220 V
Temperatuur	10ºC~30ºC
Vochtigheid	20%~80%
Zuiverheid van Argon	99 .999%