Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
Gecontroleerde Leverancier Spiegel voor lithografie-machine
Optische componenten in lithografie worden voornamelijk gebruikt in belichting, belichting, energiedetectie, lichtpadsysteem en andere scènes. Het belichtingssysteem van lithografie-apparatuur omvat een verlichtingssysteem en een objectief projectieobjectief. (1) Hoge precisie: Om nauwkeurig beeld te kunnen geven, zijn strikte controle op aberraties, vlakheid en afwerking van lithografielenzen hoge (2) hoge waarde: De productie van optische lenzen met hoge precisie vereist een slijpmachine met hoge precisie en fijne lensschuurmiddelen.
Materiaalformaat
De lens is 15,9 cm lang en 8,5 cm breed voor microkristallen. De dikte van de zijkant is 6 cm, wat wordt toegepast op de precisieonderdelen van de lithografie-machine.
Toepassingsgebied
Als kerncomponent van lithografiemachine, voornamelijk gebruikt in halfgeleiders, biogeneeskunde, fotonica, nano-apparaten
Werkingsprincipe
Het is voornamelijk gebaseerd op optische projectietechnologie. Het projecteert licht op het oppervlak van een siliciumwafer door de lichtbron op een hoge focus te plaatsen via een speciaal ontworpen lenssysteem. De siliciumwafer wordt met fotoresist bedekt, en het blootstellings- en ontwikkelingsproces van de fotoresist zal het gewenste circuitpatroon vormen. Om een hoge resolutie en een hoge patroonoverdracht te bereiken, gebruikt de lithografiemachine veel belangrijke technologieën. Het lenssysteem bestaat uit meerdere lenzen die worden gebruikt om licht op een siliciumwafer te richten om een patroon te vormen. Een lenssysteem met hoge resolutie moet kleinere aberraties, een groter gezichtsveld en een hogere optische transmissie hebben. De afgelopen jaren is de transmissielithografie, met de ontwikkeling van nanotechnologie, geleidelijk vervangen door blootstellingslithografie met complexere lenssystemen.
| dikte | lenth | breedte |
| 6 | 15.9 | 8.5 |
Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
Gecontroleerde Leverancier 
