5n Wolfram Sputtering Target

• Toepassing: Elektronica, Industrieel
• Standaard: GB
• Zuiverheid: 99.999%
• Legering: Niet-gelegeerd
• Vorm: Poeder
• Type: sputtering doel
• Model NR.: W-5Ntarget
• Transportpakket: Wooden Box Package
• Specificatie: 99.999%
• Handelsmerk: rheniumet
• Oorsprong: China
• Gs-Code: 4301962010
• Productiecapaciteit: 10000piece/Year

Beschrijving

Toepassing:

Targets van wolfraam met hoge zuiverheid, targets van wolfraam-titanium en targets van wolfraam-silicium worden gewoonlijk toegepast door magnetron-sputtering om diverse complexe en hoogwaardige dunne filmmaterialen te produceren. Omdat wolfraam met hoge zuiverheid of ultrazuiver wolfraam (5 N of 6 N) een hoge weerstand heeft tegen elektronenmigratie, hoge temperatuurstabiliteit en het vermogen stabiele siliciden te vormen, wordt het vaak gebruikt als dunne film in de elektronica-industrie als poort, aansluiting, overgang en barrière metaal. Wolfraam met ultrahoge zuiverheid en de siliciden ervan worden ook gebruikt in ultragrootschalige geïntegreerde circuits als weerstandslagen, diffusiebarrières, enz., en als gate-materialen en verbindingsmaterialen in halfgeleidertransistors met metaaloxide. Targets voor sputtering van wolfram-titanium legeringen worden vaak gebruikt om transitiemetalen lagen van dunne laagjes zonnecellen te maken.

 

Specificatie:

Naam	Moleculaire formule	Specificatie	Grootte		Relatieve dichtheid	Korrelgrootte	Percentage defecten
Tungsten-target	W	4N (99.99%)	Inch	mm	≥99%	≯50µm	0
		5 N (99.999%)	D(6,8,10,12) H(0.25,0.5,0.75)	Diameter 150 tot 350 Dikte 6-25
Tungsten Titanium Target	WTi10 WTi20	4N (99.99%)			≥99%	≯50µm	0
		4N5 (99.995%)

 

 Chemische component  

Specificatie-klasse Chemische index			W/(W+Ti)≥99.99%			W/(W+Ti)≥99.995%				W≥99.999%
Totaal aantal sporen onzuiverheden			≯100 ppm			≯50 ppm				≯10 ppm
Index onzuiverheid (ppm)			Max		Typische waarde	Max		Typische waarde		Max		Typische waarde
Radioactieve elementen	U		-		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
	Th		-		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
Alkalimetalen elementen	Li		1		0.05	0.02		0.01		0.01		0.003
	Na		5		1	0.5		0.2		0.1		0.05
	K		5		1	0.1		0.05		0.05		0.03
MA,Re			10		5	10		5		1		0.5
FE,CR			10		5	5		3		0.5		0.3
CA,Si,Cu,Ni,al,Zn,Sn,Mn,Co,Hg,V			2		1	0.5		0.3		0.2		0.2
P,AS,SE			2		1	0.5		0.2		0.2		0.2
B,PB,SB,BE,Ba,Bi,CD,GE,NB,PT,mg,ZR,Au,in,Ga,Ag			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
Alle andere individuele elementen			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
Gasanalyse (≯,ppm)		O		C			N		H		S
		30		20			20		20		10

 

Afhankelijk van het doel van het gebruik zijn er verschillende eisen aan het onzuiverheidsgehalte van targets voor wolfraam met hoge zuiverheid en targets voor wolfraam-titanium. Over het algemeen moet de chemische zuiverheid tussen 99.99% en 99.999% liggen. We kunnen ook andere specificaties aanpassen die geschikt zijn voor de toepassing, afhankelijk van de gebruikerseisen.

Bedrijfsprofiel

 

Onze Service

 

VEELGESTELDE VRAGEN

V: Handel je bedrijf of fabrikant?
A: We zijn fabriek.

V: Hoe lang is uw levertijd?
A: Over het algemeen is het 3-7 dagen als de goederen in voorraad zijn of is het 15-20 dagen als de goederen niet in voorraad zijn, is het volgens
hoeveelheid.

Q: Verstrekt u steekproeven? is het gratis of extra?
A: Ja, we kunnen de steekproef aanbieden, maar moeten de kosten van monster en vracht betalen, omdat ons product een hoge waarde heeft.

V: Wat is uw betalingsvoorwaarden ?
A: Betaling<=1000USD, 100% van tevoren. Betaling>=1000USD, 30% T/T vooraf, saldo vóór verzending.
Als u nog een vraag hebt, kunt u als volgt contact met ons opnemen: