Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
We kunnen koperdoelen met verschillende zuiverheid en eisen produceren met een zuiverheid van 99.9% tot 99.9999%. Het zuurstofgehalte kan tot <1 ppm zijn. Het wordt voornamelijk gebruikt voor de bedrading van het beeldscherm en het touchscreen en de beschermende film, de absorptielaag voor zonnelicht, de halfgeleiderbedrading, enz. industrie. Naast het voldoen aan de behoeften van klanten voor vlakke targets (de grootste generatie G8.5), kunnen we ook roterende kopertargets produceren, die voornamelijk worden gebruikt in de touchscreenindustrie. De kristallen korrels van het koperdoel met hoge zuiverheid zijn moeilijk te breken. We kunnen de groei van het kristal alleen maar onder controle houden door middel van een supergrote vervormingsverwerking om een fijne en uniforme microstructuur te verkrijgen, zodat de sputtering coating een lagere erosiesnelheid kan verkrijgen en de gevoeligheid voor deeltjesvorming tijdens sputtering kan verminderen. De volgende afbeelding toont twee typische microscopische metallopgrafische inspectiebeelden van kopersputtering-objecten, met een gemiddelde deeltjesgrootte <50 um.
Toepassing:
Onzuiverheden in de kopersputtering-target zullen de geleidbaarheid van het materiaal verminderen, en onzuiverheden zijn de belangrijkste factor die de opbrengst in de productie van halfgeleiderfilms beïnvloedt. Onzuiverheden in de vorm van titanium, fosfor, calcium, ijzer, chroom en selenium zijn bijzonder kritisch. Deze metalen hebben een zeer laag gehalte aan koper en hun onzuiverheidsgehalte ligt ver onder de standaardwaarde die klanten nodig hebben. De volgende tabel is het certificaat voor de analyse van de samenstelling van het doel van de 4N-kopersputtering met hoge zuiverheid.
De gebruikte analysemethoden zijn:
1. Gebruik GDMS of ICP-OES om metalen elementen te analyseren;
2. Gebruik LECO voor analyse van de gaselementen.
Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
