Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
Targets van wolfraam met hoge zuiverheid, targets van wolfraam-titanium en targets van wolfraam-silicium worden gewoonlijk toegepast door magnetron-sputtering om diverse complexe en hoogwaardige dunne filmmaterialen te produceren. Omdat wolfraam met hoge zuiverheid of ultrazuiver wolfraam (5 N of 6 N) een hoge weerstand heeft tegen elektronenmigratie, hoge temperatuurstabiliteit en het vermogen stabiele siliciden te vormen, wordt het vaak gebruikt als dunne film in de elektronica-industrie als poort, aansluiting, overgang en barrière metaal. Wolfraam met ultrahoge zuiverheid en de siliciden ervan worden ook gebruikt in ultragrootschalige geïntegreerde circuits als weerstandslagen, diffusiebarrières, enz., en als gate-materialen en verbindingsmaterialen in halfgeleidertransistors met metaaloxide. Targets voor sputtering van wolfram-titanium legeringen worden vaak gebruikt om transitiemetalen lagen van dunne laagjes zonnecellen te maken.
Specificatie:
|
Naam |
Moleculaire formule | Specificatie |
Grootte |
Relatieve dichtheid | Korrelgrootte | Percentage defecten | |
| Tungsten-target |
W |
4N (99.99%) |
Inch |
mm |
≥99% |
≯50µm |
0 |
|
5 N (99.999%) |
D(6,8,10,12) H(0.25,0.5,0.75) |
Diameter 150 tot 350 Dikte 6-25 |
|||||
| Tungsten Titanium Target |
WTi10 WTi20 |
4N (99.99%) |
≥99% |
≯50µm |
0 |
||
|
4N5 (99.995%) |
|||||||
Chemische component
|
Specificatie-klasse Chemische index |
W/(W+Ti)≥99.99% |
W/(W+Ti)≥99.995% |
W≥99.999% |
|||||||||
| Totaal aantal sporen onzuiverheden |
≯100 ppm |
≯50 ppm |
≯10 ppm |
|||||||||
|
Index onzuiverheid (ppm) |
Max |
Typische waarde | Max | Typische waarde | Max | Typische waarde | ||||||
|
Radioactieve elementen |
U |
- |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
0.0008 |
0.0005 |
|||||
|
Th |
- |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
0.0008 |
0.0005 |
||||||
|
Alkalimetalen elementen |
Li |
1 |
0.05 |
0.02 |
0.01 |
0.01 |
0.003 |
|||||
|
Na |
5 |
1 |
0.5 |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
||||||
|
K |
5 |
1 |
0.1 |
0.05 |
0.05 |
0.03 |
||||||
|
MA,Re |
10 |
5 |
10 |
5 |
1 |
0.5 |
||||||
|
FE,CR |
10 |
5 |
5 |
3 |
0.5 |
0.3 |
||||||
|
CA,Si,Cu,Ni,al,Zn,Sn,Mn,Co,Hg,V |
2 |
1 |
0.5 |
0.3 |
0.2 |
0.2 |
||||||
|
P,AS,SE |
2 |
1 |
0.5 |
0.2 |
0.2 |
0.2 |
||||||
|
B,PB,SB,BE,Ba,Bi,CD,GE,NB,PT,mg,ZR,Au,in,Ga,Ag |
1 |
0.5 |
0.5 |
0.1 |
0.1 |
0.1 |
||||||
| Alle andere individuele elementen |
1 |
0.5 |
0.5 |
0.1 |
0.1 |
0.1 |
||||||
|
Gasanalyse (≯,ppm) |
O |
C |
N |
H |
S |
|||||||
|
30 |
20 |
20 |
20 |
10 |
||||||||
Afhankelijk van het doel van het gebruik zijn er verschillende eisen aan het onzuiverheidsgehalte van targets voor wolfraam met hoge zuiverheid en targets voor wolfraam-titanium. Over het algemeen moet de chemische zuiverheid tussen 99.99% en 99.999% liggen. We kunnen ook andere specificaties aanpassen die geschikt zijn voor de toepassing, afhankelijk van de gebruikerseisen.
V: Handel je bedrijf of fabrikant?
A: We zijn fabriek.
A: Over het algemeen is het 5-10 dagen als de goederen op voorraad zijn of 15-20 dagen als de goederen niet op voorraad zijn, is het op basis van de hoeveelheid.
A: Ja, we kunnen de steekproef gratis aanbieden, maar betalen niet de kosten van de vracht.
A: Betaling<=1000USD, 100% van tevoren. Betaling>=1000USD, 30% T/T vooraf, saldo vóór verzending.
Als u nog een vraag hebt, kunt u als volgt contact met ons opnemen:
Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
