Diathermy RF plasma-elektrode chirurgisch systeem voor eenmalig gebruik

• Type: Sport Medicine
• Application: Orthopedic
• Material: ABS,Ss etc
• Feature: Disposable
• Certification: CE, ISO13485
• classificatie van instrumenten: klasse ii
• Model NR.: TY-RF
• desinfecterend type: eos
• houdbaarheid: 3 jaar
• Transportpakket: Plastic Tray + Blister+ Carton
• Oorsprong: Jiangsu, China
• Productiecapaciteit: 300 Set/Sets Per Month

Beschrijving

De RF-stroom genereert energie tussen de twee elektroden van de messentrommel en wekt het geleidende medium (fysiologische zoutoplossing of lichaamsvloeistof) in het voorste gedeelte op om plasma te genereren. De deeltjes met hoge energie in het plasma kunnen de moleculaire verbindingen in het weefsel ontbinden, zodat weefsel verdampt, coaguleren, ableert en snijdt onder het vooronderstel van contact met weefsel.

 

	Plasmablad	Traditioneel HF-blad
Prikkelbare media	NaCI	Cel-sap
Bedrijfstemperatuur	40-70°C.	120-300°C.
Bedrijfsmodus	Breek moleculaire binding, verdampt	Warmte-energie, verbranding
Weefselwijziging	Proteïne omkeerbaar	Onomkeerbare eiwitten, necrose
Principe en methode	Verdamping en volumevermindering, verwijder de onderdrukking van de zenuwwortel	Beschadig de zenuw van het zintuiglijk stelsel, geen volumevermindering
Blad	Blad is niet verwarmd, warmte veroorzaakt door ionenschok <70°C.	Blad is verwarmd, heet stolling
Weefselherstel	Snel	langzaam

 

·Medische tips

Elektroden zijn speciaal ontworpen voor schildklierablatie en lymfeknoopablatie. - Theyhave gemakkelijke penetratie en wendbaarheid binnen het weefsel

Wanneer een rf-stroom wordt toegepast op een planaire spoel, wordt er een oscillerend magnetisch veld (B-veld) gecreëerd, zowel boven als onder het veld. Dit genereert een voornamelijk azimutaal rf-elektrisch veld. In de vacuümkamer start dit E-veld een elektronenlawine die het plasma creëert.

Radiofrequente plasma's (rf-plasma's) worden gevormd in een gasstroom door een extern toegepast radiofrequentieveld. De efficiëntie van de koppeling is de verhouding tussen het vermogen dat door het plasma wordt geaccepteerd en het invallende vermogen, d.w.z. de output van de oscillator. Gereflecteerd vermogen is het vermogen dat teruggekaatst wordt naar de oscillator.