Startpaginaarrow-rightChina Fabriek Indexarrow-rightbatio3 doel fabriekarrow-rightleverancierslijst
Filter
Categorie
Meer
Beheer Certificering
Meer
R&D-capaciteit
Jaaromzet
Aantal werknemers
Provincie & Regio
ongeveer batio3 doel
  • Technologische innovatie
  • Betrouwbare toeleveringsketens
  • Aanzienlijke productiemogelijkheden

batio3 doel9 fabrieken geverifieerd

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoogwaardige Bariumtitaat Sputterdoel voor Keramische Batio3 Coatingtoepassingen

Hoogwaardige Bariumtitaat Sputterdoel voor Keramische Batio3 Coatingtoepassingen

US$ 25,00-30,00
10 Stukken(MOQ)
Hoge Zuiverheid 99.95% Bariumtitanaat Sputterdoelen Batio3 (BTO) Keramisch Doel

Hoge Zuiverheid 99.95% Bariumtitanaat Sputterdoelen Batio3 (BTO) Keramisch Doel

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Halfgeleiderkwaliteit Batio3 sputterdoel

Halfgeleiderkwaliteit Batio3 sputterdoel

US$ 100,00-1.000,00
1 Stuk(MOQ)
Aangepaste Batio3 Doelstelling voor Geavanceerde Dunne Film Depositie

Aangepaste Batio3 Doelstelling voor Geavanceerde Dunne Film Depositie

US$ 100,00-1.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Zhangzhou Quark Metal Products Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Batio3 Sputterende Doel van het Magnetron van het Doel van het Metaal van het Doel het Materiële

Batio3 Sputterende Doel van het Magnetron van het Doel van het Metaal van het Doel het Materiële

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Sputterende Doelstellingen

Sputterende Doelstellingen

US$ 60,00
1 Stuk(MOQ)

Wuxi Kingful Corporation., Ltd

9 jaar
Verstuur aanvraag
4/6/8/12 Inch silicium wafer voor Mosfet-chips

4/6/8/12 Inch silicium wafer voor Mosfet-chips

US$ 650,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Shanghai Opticrystal Materials Co., Ltd.

12 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Scintillatiekristal Cdwo4 met sterke weerstand tegen stralingsschade

Scintillatiekristal Cdwo4 met sterke weerstand tegen stralingsschade

US$ 40,00-50,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Batio3 Sputtering Doelmagnetron vacuümcoating

Batio3 Sputtering Doelmagnetron vacuümcoating

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)
Keramische sputtering Target barium titanium oxide Batio3 voor PVD-coating

Keramische sputtering Target barium titanium oxide Batio3 voor PVD-coating

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)
Batio3 barium titanium oxide BTO Ceramic Plane Sputtering Target

Batio3 barium titanium oxide BTO Ceramic Plane Sputtering Target

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)
Hoge zuiverheid 4n barium titanium oxide Batio3 Sputtering Target

Hoge zuiverheid 4n barium titanium oxide Batio3 Sputtering Target

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoge Zuiverheid rf die Ceramische Doelstellingen sputteren zoals: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, Sb2se3, Znga, Bacatio3 GA: ZnO, Lasrmno3, Sc2o3, Znmno3, Bi, GaAs Lasrnio3 enz.

Hoge Zuiverheid rf die Ceramische Doelstellingen sputteren zoals: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, Sb2se3, Znga, Bacatio3 GA: ZnO, Lasrmno3, Sc2o3, Znmno3, Bi, GaAs Lasrnio3 enz.

US$ 200,00
1 Stuk(MOQ)
1/2
Over Ons Verklaring Gebruikersovereenkomst Privacybeleid Neem contact op met Made-in-China.com Topproducten Inzichten
Taal Opties: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Alle rechten voorbehouden
Focus is niet verantwoordelijk voor het inhoudelijke verschil van de website tussen de Engelse versie en andere taalversies. In geval van discrepantie tussen verschillende talenversies, zal de Engelse versie voorrang hebben . Door gebruik te maken van deze Website aanvaardt en erkent U zonder enig voorbehoud onze gebruiksvoorwaarden.