Startpaginaarrow-rightChina Fabriek Indexarrow-rightSputterende keramische doelwit fabriekarrow-rightleverancierslijst
Filter
Categorie
Meer
Beheer Certificering
Meer
R&D-capaciteit
Jaaromzet
Aantal werknemers
Provincie & Regio
Meer
ongeveer Sputterende keramische doelwit
  • Technologische innovatie
  • Betrouwbare toeleveringsketens
  • Aanzienlijke productiemogelijkheden

Sputterende keramische doelwit90+ fabrieken geverifieerd

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Verstuur aanvraag
Poly-Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel/Zonne-Photovoltaïsche systemen

Poly-Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel/Zonne-Photovoltaïsche systemen

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Mono-Si Doel Monokristallijn Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel Zonne-energie Fotovoltaïsche Mobiele Telefoon

Mono-Si Doel Monokristallijn Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel Zonne-energie Fotovoltaïsche Mobiele Telefoon

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Doel Strontium Ruthenaat Keramisch Sputterdoel voor Optische Dunne Film Coating

SrRuO3 Doel Strontium Ruthenaat Keramisch Sputterdoel voor Optische Dunne Film Coating

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Cofe2o4 Keramische Doelen 99.9% Kobalt Ferriet Sputterdoelen voor PVD Coating

Cofe2o4 Keramische Doelen 99.9% Kobalt Ferriet Sputterdoelen voor PVD Coating

US$ 25,00-30,00
10 Stukken(MOQ)
Keramisch Doel 99.99% MOS2 Molybdeen Disulfide Spuitdoelen voor Vacuüm Coating

Keramisch Doel 99.99% MOS2 Molybdeen Disulfide Spuitdoelen voor Vacuüm Coating

US$ 100,00-500,00
1 pieces(MOQ)
Keramische Doelen 99.99% Ta2o5 Sputterdoel Tantalumoxide Doelen voor PVD Coating

Keramische Doelen 99.99% Ta2o5 Sputterdoel Tantalumoxide Doelen voor PVD Coating

US$ 20,00-30,00
10 Stukken(MOQ)
Aangepaste maat pure niobiumoxide keramische sputterdoel met hoge zuiverheid

Aangepaste maat pure niobiumoxide keramische sputterdoel met hoge zuiverheid

US$ 110,00-120,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Verstuur aanvraag
Zro2-Sio2 Keramisch Doel Zirkoon - Oxide Siliciumdioxide Zirkoon Silicaat Sputterdoelen

Zro2-Sio2 Keramisch Doel Zirkoon - Oxide Siliciumdioxide Zirkoon Silicaat Sputterdoelen

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Zto keramisch doelzink-tinoxide sputterdoel voor dunne filmcoating

Zto keramisch doelzink-tinoxide sputterdoel voor dunne filmcoating

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Tic Keramisch Doel Titanium Koolstof Titanium Carbide Sputterdoel

99.9% Tic Keramisch Doel Titanium Koolstof Titanium Carbide Sputterdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Hoge Pure Fe2o3 Keramische Doel Ijzeroxide Sputterdoel

3n, 4n, 5n Hoge Pure Fe2o3 Keramische Doel Ijzeroxide Sputterdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Siliciumcarbide-doel Sic 99.9% sputtercoating keramisch doel

Siliciumcarbide-doel Sic 99.9% sputtercoating keramisch doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Siliciumcarbide SiC hoogzuivere gecoate keramische doelwit magnetron sputteren verwerking maatwerk

Siliciumcarbide SiC hoogzuivere gecoate keramische doelwit magnetron sputteren verwerking maatwerk

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Hoge Zuiverheid 99.9%- 99.99% Ruo2 Doel, 1-10inch Ruthenium Dioxide Sputterdoel

Hoge Zuiverheid 99.9%- 99.99% Ruo2 Doel, 1-10inch Ruthenium Dioxide Sputterdoel

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige Tantalum Metaal Sputterdoel voor Dunne Film Coating

Hoogwaardige Tantalum Metaal Sputterdoel voor Dunne Film Coating

US$ 300,00-1.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Schijf Sputterdoel

Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Schijf Sputterdoel

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Lanthanum Hexaboride Lab6 keramische sputterdoel voor PVD dunne filmcoating

Lanthanum Hexaboride Lab6 keramische sputterdoel voor PVD dunne filmcoating

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Hoog Elektronemissiviteit Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Doelen

Hoog Elektronemissiviteit Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Doelen

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Sputterdoel Lanthanumboride Lab6 Keramische Schijf

Sputterdoel Lanthanumboride Lab6 Keramische Schijf

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Verstuur aanvraag
TMAXCN Merk 99.5% Sic Keramisch Doel Siliciumcarbide Sputterdoel voor Coating

TMAXCN Merk 99.5% Sic Keramisch Doel Siliciumcarbide Sputterdoel voor Coating

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
TMAXCN Merk Hoge Dichtheid Zn2sno4 Zink Stannaat Sputterdoel Keramische Coating Materiaal

TMAXCN Merk Hoge Dichtheid Zn2sno4 Zink Stannaat Sputterdoel Keramische Coating Materiaal

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
Bureau DC/RF Magnetron Sputtering Geleidende Coater Voor Metalen, Oxiden & Keramiek & Halfgeleiders

Bureau DC/RF Magnetron Sputtering Geleidende Coater Voor Metalen, Oxiden & Keramiek & Halfgeleiders

US$ 15.000,00
1 Stuk(MOQ)
TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid 99.5% Pure Boorcarbide B4c Keramische Sputterdoel

TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid 99.5% Pure Boorcarbide B4c Keramische Sputterdoel

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Titanium doelwit fabrikant leverancier

Titanium doelwit fabrikant leverancier

US$ 30,00-100,00
1 Stuk(MOQ)
PVD-coatingmachine voor alle materialen, metaal, glas, keramiek

PVD-coatingmachine voor alle materialen, metaal, glas, keramiek

Bespreekbaar
1 Set(MOQ)
Magnetron sputteren chroom PVD vacuümcoatingmachine

Magnetron sputteren chroom PVD vacuümcoatingmachine

US$ 15.000,00-165.000,00
1 Stuk(MOQ)
Fysieke Damp Depositie Magnetron Spuitcoating Vacuüm Machine

Fysieke Damp Depositie Magnetron Spuitcoating Vacuüm Machine

US$ 15.000,00-160.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 jaar·5.0
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Boron-nitride sputterdoel, verdampingsboten van boron-nitride, keramische elektrische kruik van boron-nitride

Boron-nitride sputterdoel, verdampingsboten van boron-nitride, keramische elektrische kruik van boron-nitride

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Titanium-Diboride (TiB2) sputterdoelen keramische plaat

Titanium-Diboride (TiB2) sputterdoelen keramische plaat

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 keramische sputterdoel titaniumdiboride

Tib2 keramische sputterdoel titaniumdiboride

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Puur Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Coating Sputtering Doel voor Hoge Kwaliteit Coating

Puur Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Coating Sputtering Doel voor Hoge Kwaliteit Coating

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Hoogwaardige Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Sputterdoel voor Coatingtoepassingen

Hoogwaardige Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Sputterdoel voor Coatingtoepassingen

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
Verstuur aanvraag
Aluminium Pellets APP-512 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

Aluminium Pellets APP-512 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Ton(MOQ)
Aluminium Pellets API-625 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

Aluminium Pellets API-625 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Ton(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Verstuur aanvraag
Magnetron sputteren ruthenium doel hoogzuiver

Magnetron sputteren ruthenium doel hoogzuiver

US$ 32.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Hoge Precisie Tungsten Sputterdoel

4n Hoge Precisie Tungsten Sputterdoel

US$ 3.500,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige siliciumcarbide doelmateriaal

Hoogwaardige siliciumcarbide doelmateriaal

US$ 15.000,00
1 Stuk(MOQ)
Ruthenium Doel Hoogzuivere Sputterronde Doel

Ruthenium Doel Hoogzuivere Sputterronde Doel

US$ 75.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoge kwaliteit Nickle ronde doel voor Sputtering Target

Hoge kwaliteit Nickle ronde doel voor Sputtering Target

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Hoogsmeltend Zirconium Ronde Sputterdoel Zr702

Hoogsmeltend Zirconium Ronde Sputterdoel Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Hoge hardheid gepolijste oppervlakte en hogere zuiverheid nikkel buisdoel

Hoge hardheid gepolijste oppervlakte en hogere zuiverheid nikkel buisdoel

US$ 30,00
10 Stukken(MOQ)
Goede thermische en elektrische geleidbaarheid pure rechte zirconium ronde staaf

Goede thermische en elektrische geleidbaarheid pure rechte zirconium ronde staaf

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoogwaardige sputtering titaniumdoelen prijs voor PVD-coating/Ti sputtering titaniumdoel/Ronde titaniumdoel te koop

Hoogwaardige sputtering titaniumdoelen prijs voor PVD-coating/Ti sputtering titaniumdoel/Ronde titaniumdoel te koop

US$ 80,00-300,00
1 Stuk(MOQ)
Hoge prestaties kleurrijke coating Low-E glas magnetron sputtering productielijn

Hoge prestaties kleurrijke coating Low-E glas magnetron sputtering productielijn

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Beroepsauto-wiel-magnetron-sputtercoatingmachine

Beroepsauto-wiel-magnetron-sputtercoatingmachine

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Hoge kwaliteit auto-onderdelen vacuümcoatingmachines

Hoge kwaliteit auto-onderdelen vacuümcoatingmachines

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO (Indium Tin Oxide) doelmateriaal, Indium Tin Oxide Semiconductor transparante geleidende film, magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Tin Oxide) doelmateriaal, Indium Tin Oxide Semiconductor transparante geleidende film, magnetron Sputtering Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
High-purity zinkoxide Aluminium (AZO) Target Material, zinkoxide (ZNO) dooped met aluminiumoxide (Al2O3) , magnetron Sputtering Oxide Target, Backplate Bonding

High-purity zinkoxide Aluminium (AZO) Target Material, zinkoxide (ZNO) dooped met aluminiumoxide (Al2O3) , magnetron Sputtering Oxide Target, Backplate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 jaar
·Fabrikant/fabriek
Verstuur aanvraag
Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

US$ 26.500,00
1 Stuk(MOQ)
Enkeldoel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

Enkeldoel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

US$ 18.000,00-19.200,00
1 set(MOQ)
Enkele Doel Magnetron Sputteren met Optische Vezel Winding Functie

Enkele Doel Magnetron Sputteren met Optische Vezel Winding Functie

US$ 28.000,00-29.500,00
1 set(MOQ)
Enkele Dubbele Drievoudige Doel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

Enkele Dubbele Drievoudige Doel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

US$ 60.000,00-61.200,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Vierdoel Magnetron Spuitcoater met Laadvergrendeling Kamer voor Keramische Dunne Film

Vierdoel Magnetron Spuitcoater met Laadvergrendeling Kamer voor Keramische Dunne Film

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Stuk(MOQ)
Desktop RVS Cavity Enkeldoel Magnetron Sputter Coating Apparatuur

Desktop RVS Cavity Enkeldoel Magnetron Sputter Coating Apparatuur

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Stuk(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Stuk(MOQ)
Drie Target Magnetron Sputtercoater met Overgangskamer voor SEM Monster Voorbereiding

Drie Target Magnetron Sputtercoater met Overgangskamer voor SEM Monster Voorbereiding

US$ 68.200,00-70.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Doelmateriaal van hoge zuiverheid Igzo (Indium Gallium Zinc Oxide) voor PVD-magnetron Sputtering vacuümcoating, onderzoek en experimenteel materiaal

Doelmateriaal van hoge zuiverheid Igzo (Indium Gallium Zinc Oxide) voor PVD-magnetron Sputtering vacuümcoating, onderzoek en experimenteel materiaal

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Zirkonium-sputtering doel

Zirkonium-sputtering doel

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
ITO (tabletten) Sputtering Target

ITO (tabletten) Sputtering Target

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
Tiox Target

Tiox Target

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
ITO-doel

ITO-doel

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

US$ 250,00-500,00
1 Stuk(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Keramische sputtering-targets

Keramische sputtering-targets

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
ITO-sputtering-doel

ITO-sputtering-doel

US$ 20,00-1.000,00
1 Set(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

Verstuur aanvraag
Het Sputterende Doel van het Doel van het Osmium van de hoge Zuiverheid voor Industrie van de Dunne Film

Het Sputterende Doel van het Doel van het Osmium van de hoge Zuiverheid voor Industrie van de Dunne Film

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Verstuur aanvraag
Geavanceerde Yttrium Sputterdoelen voor Superieure Coatingtoepassingen

Geavanceerde Yttrium Sputterdoelen voor Superieure Coatingtoepassingen

US$ 115,00-130,00
1 Stuk(MOQ)
Premium Gadolinium Metaal Sputterdoel Schijf 99.9% Zuiverheid

Premium Gadolinium Metaal Sputterdoel Schijf 99.9% Zuiverheid

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Premium Gadolinium Gd Sputterdoel voor Geavanceerde Toepassingen

Premium Gadolinium Gd Sputterdoel voor Geavanceerde Toepassingen

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige lanthanummetaaldoel voor displaytechnologie

Hoogwaardige lanthanummetaaldoel voor displaytechnologie

US$ 150,00-350,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 jaar·5.0
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Mo1 Doel Molybdeen Sputterdoel Prijs

Mo1 Doel Molybdeen Sputterdoel Prijs

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Topkwaliteit molybdeen doel molybdeen plaat

Topkwaliteit molybdeen doel molybdeen plaat

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Aangepaste hoge temperatuur Mo-La molybdeen kruik

Aangepaste hoge temperatuur Mo-La molybdeen kruik

US$ 31,00-49,00
1 kg(MOQ)
Beste Verkoper Pure Molybdeen Schaal

Beste Verkoper Pure Molybdeen Schaal

US$ 32,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Verstuur aanvraag
Ferrosoxide Feo 4n Sputtering Target voor PVD-coating

Ferrosoxide Feo 4n Sputtering Target voor PVD-coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Yttrium Zirconium-oxide Ysz(ZrO2/Y2o3 99.99% sputtering doel-keramisch doel

Yttrium Zirconium-oxide Ysz(ZrO2/Y2o3 99.99% sputtering doel-keramisch doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Zeldzame aarde CEO2 99.95% keramische sputtering doel PVD Coating

Zeldzame aarde CEO2 99.95% keramische sputtering doel PVD Coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
5-200kw Typische sputterbron voor dunne filmcoatingindustrieën roterende magnetron sputterkatode roterend sputterdoel

5-200kw Typische sputterbron voor dunne filmcoatingindustrieën roterende magnetron sputterkatode roterend sputterdoel

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Roterende kathode, cilindrische buisdoel voor coatingmachine

Roterende kathode, cilindrische buisdoel voor coatingmachine

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
Hoge Precisie Magnetron Spuitcoatingmachine voor Metalen Glas Keramische Substraten

Hoge Precisie Magnetron Spuitcoatingmachine voor Metalen Glas Keramische Substraten

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
PVD Magnetron Spuitmachine voor Keramische Oppervlaktebehandeling

PVD Magnetron Spuitmachine voor Keramische Oppervlaktebehandeling

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
99,999% Hoge Zuiverheid Monokristallijn Silicium Sputterdoelplaat / Silicium Keramisch Doel

99,999% Hoge Zuiverheid Monokristallijn Silicium Sputterdoelplaat / Silicium Keramisch Doel

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Azo Doel ZnO: Al2O3 Rotatiesputdoelen

4n Azo Doel ZnO: Al2O3 Rotatiesputdoelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
Aangepaste maat hoge zuiverheid koolstof grafiet sputterdoelen 99,99% bindkoperdoel

Aangepaste maat hoge zuiverheid koolstof grafiet sputterdoelen 99,99% bindkoperdoel

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n TiO2 Doel Titaniumoxide Rotatiedoelen/Vlakke Doelen

4n TiO2 Doel Titaniumoxide Rotatiedoelen/Vlakke Doelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit ITO Rotary Sputtering Doel 4n In2o3 en Sno2

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit ITO Rotary Sputtering Doel 4n In2o3 en Sno2

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Zuiverheid ITO Doel voor Rpd 4n

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Zuiverheid ITO Doel voor Rpd 4n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Lage Dichtheid 4n ITO Kleine Ronde Doelstelling

Fabrieksprijs Verkoop Lage Dichtheid 4n ITO Kleine Ronde Doelstelling

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Dichtheid Indium Tin Oxide ITO Kleine Ronde Doel 4n

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Dichtheid Indium Tin Oxide ITO Kleine Ronde Doel 4n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Het Doel van ATO, ATO van de Film van het Venster van IRL, het Doel van het Oxyde van het Tin van het Antimonium

Het Doel van ATO, ATO van de Film van het Venster van IRL, het Doel van het Oxyde van het Tin van het Antimonium

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Doel van het Oxyde van het indium, Doel In2o3

Het Doel van het Oxyde van het indium, Doel In2o3

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Doel van Stannate van het cadmium, de ZonneLaag van Tco van de Dunne Film CD-Te

Het Doel van Stannate van het cadmium, de ZonneLaag van Tco van de Dunne Film CD-Te

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Verstuur aanvraag
Al2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Al2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Azo Cilindrische Doelstellingen

Azo Cilindrische Doelstellingen

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Bifeo3 Ceramisch Sputterend Doel

Bifeo3 Ceramisch Sputterend Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Bi2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bi2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
14
Over Ons Verklaring Gebruikersovereenkomst Privacybeleid Neem contact op met Made-in-China.com Topproducten Inzichten
Taal Opties: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Alle rechten voorbehouden
Focus is niet verantwoordelijk voor het inhoudelijke verschil van de website tussen de Engelse versie en andere taalversies. In geval van discrepantie tussen verschillende talenversies, zal de Engelse versie voorrang hebben . Door gebruik te maken van deze Website aanvaardt en erkent U zonder enig voorbehoud onze gebruiksvoorwaarden.