Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
Gecontroleerde Leverancier
Korte introductie van het magnetron-sputtersysteem:
dit apparaat is een dubbel doel magnetron-sputter-apparaat, dat kan worden gebruikt voor de bereiding van dunne metaalfilms. Het heeft toepassingen op het gebied van elektronica, optica en speciale keramische preparatie. Het kan ook worden gebruikt voor de voorbereiding van SEM-monsters in laboratoria.
Specificatie van de 2-inch magnetron Plasma Sputtering met twee koppen Coater-systeem
|
Productnaam |
Dubbele magnetron-sputtering-coater met overgangskamer |
|
Productmodel |
CY-MSP325G-2T-DVC-2DC (dubbele vacuümkamer) |
|
Installatievoorwaarden |
1. Temperatuur in de werkomgeving 25 °C±15 °C, vochtigheid 55% RV±10% RV; 2. Stroomvoorziening van de apparatuur: AC220V, 50 Hz, moet goed geaard zijn; 3. Nominaal vermogen: 5000 w; 4. Gas voor apparatuur: De kamer van de apparatuur moet worden gevuld met argon voor reiniging, en de klant moet argon voorbereiden, met een zuiverheid van ≥99.99%; 5. De ruimte is 1200 mm × 1200 mm × 2000 mm; 6. De plaatsing vereist goede ventilatie en warmteafgifte. |
|
Technische parameters |
1. Sputterende voeding: Gelijkstroomvoeding 500 W x 2; maximale uitgangsspanning 600 V, limiet uitgangsstroom 1000 mA 2. Magnetron-target: 2 inch gebalanceerde target met magnetische koppelplaat; 3. Toepasbaar doelmateriaal voor magnetron-target: φ50mm x 3mm dik geleidend metaal doelmateriaal 4. Grootte van de holte: Hoofdholte φ325mm x 410 mm; overgangsholte 150x150x150mm 5. Kamerfunctie: De hoofdkamer is uitgerust met een zijdeur die is afgedicht door een afdichtring, een kwarts observatievenster met een keerschot, en een handmatige bedieningsstang voor het overbrengen van monsters. De overgangskamer is voorzien van een bovendeksel met een kwartsraam dat is afgedicht door een afdichtring, een magnetische koppelstang voor het transporteren van monsters in de hoofdkamer en een onafhankelijk vacuümsysteem. 6. Materiaal van de holte: Roestvrij staal 304 7. Roterende monstertafel voor verwarming: De snelheid is traploos instelbaar van 1 tot 20 omw/min; de verwarmingstemperatuur is maximaal 500°C, en de verwarmingssnelheid wordt aanbevolen 10°C/min te zijn, en de maximumtemperatuur is 20°C/min. 8. Koelmethode: Magnetron-target en moleculaire pomp hebben een circulerende waterkoeler nodig; 9. Waterkoeler: Volume waterreservoir 9 l, debiet 10 l/min. 10. Gastoevoersysteem : Massaflowmeter, gastype AR -gas, stroomsnelheid 1~200sccm (aanpasbaar); 11. Nauwkeurigheid van de debietmeter : ± 1.5% bereik 12. Het pompgedeelte van de vacuümkamer is CF160; 13. De luchtinlaat-interface is een 1/4 inch dubbele ring; 14. Het display bestaat uit 14 industriële computers van alle apparaten in één; 15. De sputterstroom kan worden aangepast en de veilige stroomwaarde en veilige vacuümwaarde kunnen worden ingesteld; 16. Veiligheidsbescherming: De sputterstroom wordt automatisch uitgeschakeld als de overstroom en het vacuüm te laag zijn; 17. Vacuümsysteem: De hoofdkamer is uitgerust met een CY-GZK103-pomp met hoog vacuüm en een pompsnelheid van 600 l/s; de overgangskamer is uitgerust met een kleine moleculaire pompset met een pompsnelheid van 60 l/s. De twee sets vacuümsystemen kunnen onafhankelijk werken en besturen, en de pneumatische kleppen tussen de kamers en in het vacuümsysteem worden allemaal geregeld door programma's, die een eenvoudige en snelle actie kunnen realiseren. 18. Eindvacuüm : 5E-4Pa (met moleculaire pomp); 19. De vacuümmeting is een samengestelde vacuümmeter, en het bereik is: 10-5Pa~105Pa |
|
Voorzorgsmaatregelen |
1. Om een zuurstofvrije omgeving te bereiken, moet de vacuümkamer ten minste 3 keer met inert gas van hoge zuiverheid worden gereinigd. 2. Magnetron-sputtering is gevoeliger voor het luchtvolume en er moet een massaflowmeter worden gebruikt om het luchtvolume te regelen. 3. Houd de holte in een vacuüm wanneer de apparatuur niet in gebruik is. 4. Als het apparaat lange tijd niet is gestofzuigd, moet het worden ontgast wanneer het opnieuw wordt gebruikt om de vacuümprestaties te verbeteren. |
|
Optionele accessoires |
|
|
Monitor voor de filmdikte |
1. Resolutie van de dikte van de film : 0,0136Å (aluminium) 2. Nauwkeurigheid van de dikte van de folie : ±0.5%, afhankelijk van de procesomstandigheden, met name de positie van de sensor, de materiaalbelasting, de temperatuur en de dichtheid 3. Meetsnelheid: 100 ms-1s/tijd, het meetbereik kan worden ingesteld: 500000Å (aluminium) 4. Standaard sensorkristal: 6 MHz 5. Toepasselijke chipfrequentie: 6 MHz toepasselijke chipgrootte: Φ14mm montageflens: CF35 |
|
Andere accessoires |
1. Hoogwaardige moleculaire pompset uit de CY-CZK103-serie (inclusief samengestelde vacuümmeter, meetbereik 10-5Pa~105Pa); Kleine moleculaire pompset uit de CY-GZK60-serie (inclusief samengestelde vacuümmeter, meetbereik 10-5Pa~102Pa) VRD-4 bipolaire vacuümpomp met roterende schoepen; 2. KF25/40-vacuümbalgen; lengte kan 0,5 m, 1 m, 1,5 m zijn; KF25-klembeugel 3. Kristallen oscillator van de laagdiktemeter; |
Zhengzhou CY Scientific instrument Co., Ltd. is een onderneming met een hoge en nieuwe technologie, die is geregistreerd in de provincie Zhengzhou, Henan. Zhengzhou CY Scientific instrument Co., Ltd is voornamelijk bezig met het onderzoeken en ontwikkelen, ontwerpen en produceren van apparatuur die in wetenschappelijke onderzoeken wordt gebruikt.
Onze producten omvatten voornamelijk hoogtemperatuur oven en verwarmingselement, zoals lab moffeloven, tube oven, dental oven, vacuüm oven, goud smeltoven, SiC verwarmingselement, MoSi2 verwarmingselement, alumina buizen en kroezen, enz.
Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties
Gecontroleerde Leverancier 
