• 99.95% Hoge zuiverheid IR Iridiu Sputtering doelplaat / IR Iridiu metalen doel
  • 99.95% Hoge zuiverheid IR Iridiu Sputtering doelplaat / IR Iridiu metalen doel

99.95% Hoge zuiverheid IR Iridiu Sputtering doelplaat / IR Iridiu metalen doel

Applicatie: Industrial
formule: iridium
classificatie: Metal Traget
kwaliteitsstandaard: industriële kwaliteit
certificering: iso
vorm: Rotary,Flat,Round

Contacteer leverancier

Gouden Lid Sinds 2023

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Guangdong, China
om alle geverifieerde sterktelabels te bekijken (14)

Basis Informatie.

Model NR.
CYT-IR
Transportpakket
Wooden Box
Specificatie
Customized Size
Handelsmerk
CANYUAN
Oorsprong
China
Productiecapaciteit
1000PCS

Beschrijving


 
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
Iridium is wit als platina, met een beetje geelachtige tint. Iridium is hard en breekbaar, het smeltpunt is zeer hoog, dus het is moeilijk om te gieten en plasticiseren. Daarom maakt het productieproces over het algemeen gebruik van poedermetallurgie. Iridium is het enige metaal dat nog steeds uitstekende mechanische eigenschappen behoudt in lucht boven 1600 °C. Het kookpunt is extreem hoog, waarbij het tiende van alle elementen is. Iridium is een van de meest corrosiebestendige metalen. Het kan bijna alle zuren, aqua regia, gesmolten metaal, en zelfs silicaten bij hoge temperaturen weerstaan.

Iridium sputtering targets worden gebruikt voor dunne film depositie en worden gewoonlijk gebruikt in brandstofcellen, decoratie, halfgeleiders, displays, LED's, en fotovoltaïsche apparatuur, glascoating, enz.

Iridium materialen omvatten iridium draad, iridium deeltjes, iridium sputtering targets, etc.; zuiverheid en specificaties kunnen worden aangepast. Andere legeringsvormen van iridium targets zijn iridium rodium, iridium platina legeringen, enz.
De volgende afbeelding is een analysetabel voor chemische samenstelling van de doelstelling van het iridium met hoge zuiverheid van 3N5:

Andere toepassingen van iridium:

1.Hardingsmiddel voor speciale legeringen;
2.Rhodium-iridium-legering kan worden gebruikt voor het maken van thermokoppels met hoge temperatuur;
3.Iridium-wolfraamlegeringen kunnen worden gebruikt als veermateriaal met hoge temperaturen;
4.Iridium-kroes, onderdelen van instrumenten, metalen draden voor vacuüminstrumenten voor hoge temperaturen, elektrische contacten, enz.;
5.gebruikt als katalysator voor reacties zoals hydrogenatie, deoxygenatie en oxidatie;
6.Iridium-films worden gebruikt als beschermende folie of zware elektrische contacten.
 Specificatie van doelen  
Toepassing PVD-sputtermaterialen
Materiaal Iridium
Zuiverheid 3N5
Grootte aangepast
Dikte aangepast
Vorm Roterende sputtering doel, Ring type, veltype, Plat type en buis type
Dichtheid 21,45 g/cm3
Smeltpunt 1772 ºC
Productie methode Poeder

99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target

Ons voordeel
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target


Proces
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target

Afbeelding van verpakking
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target


Toepassing:
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target

Gerelateerd product.
Materiaal Zuiverheid
(N)
Onderdelen
(wt%)
Dichtheid Smelten
 Punt
Thermisch
Geleidbaarheid
(WM-1K-1)
Coëfficiënt van
 uitbreiding
(10-6k-1)
Productie
 Proces
Al-legering 5 N. - 2.7 660 235 23.1 Smelten
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HEUP
Cu 4 N. - 8.9 1084 400 16.5 Smelten
MO-legering 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HEUP
NB 4 N. - 8.6 2477 54 7.3 Smelten
TA 4 N. - 16.7 3017 57 6.3 Smelten
SI 4 N. - 2.33 1414 150 2.6 Sinteren&Spray
TI 5 N. - 4.5 1670 22 8.6 Smelten
W 4 N. - 19.25 3422 174 4.5 HEUP
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinteren
ITO 4 N. 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinteren
GZO 3N5 ZOALS GEVRAAGD 7.15 - - - Sinteren
IGZO 4 N. ZOALS GEVRAAGD - - - - Sinteren
Nbox 4 N. - 4.6 1460 5 1.5 Sinteren&Spray
TIOx 4 N. - 4.23 1800 4 7.14 Sinteren&Spray
 

Stuur uw aanvraag naar deze leverancier

*van:
*naar:
*bericht:

Voer tussen 20 tot 4000 karakters.

Dit is niet wat je zoekt? Plaats Nu het Verzoek tot Scourcing

Zoek vergelijkbare producten op categorie

Startpagina leverancier Producten Metalen doel 99.95% Hoge zuiverheid IR Iridiu Sputtering doelplaat / IR Iridiu metalen doel

Misschien Vind Je Het Leuk

Contacteer leverancier

Gouden Lid Sinds 2023

Leveranciers met geverifieerde zakelijke licenties

Fabrikant/fabriek
Hoofd Producten
Sputtering Target
Aantal Werknemers
6