Beschrijving
Spectrometer met Fe-basis voor hete verkoop
Toepassingsgebied
Dit apparaat wordt op grote schaal gebruikt bij de materiële analyse van verschillende industrieën, zoals ijzer en staal, non-ferro metaal, metallurgie, machines, chemische apparatuur, kwaliteitscontrolesysteem, enzovoort. Het wordt ook gebruikt in, routinematige identificatie en analyse in de metallic-gerokte industrie.
1, Beheer de procesregeling van het hoogfornuis door verschillende processen van de celeriteitsanalyse van het hoogfornuis.
2, Identificatie van de productspecificaties.
3, Materiaalcontrole en acceptatie.
4, Kwaliteitscontrole.
Het toewijzen en analyseren van kanaal- en kwantitatieve werkschaal
Belangrijke functies
1, het menselijke georiënteerde ontwerp, de gestandaardiseerde en gemodulariseerde productie maken het apparaat kleiner.
2, de kerncomponenten worden allemaal geïmporteerd, wat de stabiliteit en betrouwbaarheid van het apparaat versterkt.
3, we nemen de geavanceerde buitenlandse technologieën van excitatiebron over en ontwerpen de excitatiebron van hoge energie, hoge stabiliteit op eigen kracht om te voldoen aan de behoeften van ultrahoge inhoud en sporenanalyse.
4, het neemt algemene uitgang spleet met behulp van technologie die handig is voor het kiezen van passage en regulering.
5, de hoogspanning van de PHT in het apparaat wordt rechtstreeks door de computer geregeld en geregeld door software, die de efficiëntie van de doorgang verbeterde.
6, in het apparaat is er een automatisch constant temperatuursysteem dat het probleem van de slechte effecten voor het optische systeem, veroorzaakt door temperatuurverandering, oplost.
7, de meertalige bedieningssoftware en flexibele configuratie maken het apparaat humanischer.
8, dit apparaat kan verschillende soorten matrix analyseren, zoals Fe, Co, Ni, Ti, Cu, al, PB, mg, Zn en Sn.
De configuratie van het product.
Directe aflezing spectrometer
Hoofdparameters
Excitatielichtbron:
Voedingsspanning: 50 Hz, 220 V ± 1%
Ingangsvermogen: 1, 0 kVA
Laadcondensator: Voorverbranding 8 μF, blootstelling 1, 5 μF
Piekstroom: Voorverbranding 100A, blootstelling 20A
De piekdruk van het hoofdcircuit: 300 VDC (met automatische aanpassing van de piekdruk)
Ontstekingscircuit: Pulsamplitude: +15 KV
Extra gat: Tunnel Diode gebruiken
Ontladingsfrequentie: 200 Hz ~ 600 Hz
Monstersets met tussenruimte: 4 mm
Spectrometer:
Bereik analyseband: 140 - 800 nm
Machinaal gegraveerde dorskorfroosters: Kromtestraal van 750 mm
Geeft de dichtheid weer: 1667/mm
Invalshoek: 35 graden
Er zijn maximaal 36 kanalen toegestaan
Spectrometer lokale temperatuur: 35 ºC ± 0.5 ºC
Regelsysteem:
Meet- en regelsysteem: Het meetsysteem en de besturing van de computer met één kaart, gegevensuitwisseling met de hostcomputer
Reproduceerbaarheid: RSD ≤ 0.2%
Hoogspanningstoevoer voor fotomultiplierbuis:
Stabiliteit: 8 uur is beter dan 0.5%
Gegevensverwerkingssysteem
Hardwareconfiguratie (basisconfiguratie)
COMPUTER: LCD VAN 250 G/2 G/19
Printer:
Softwarefuncties
Software voor meerdere talen onder HET WINDOWS-besturingssysteem
Verschillende monsters kalibreren één analyseresultaat tegelijkertijd
Polygoon en polynomiale curve passen
De concentratiebasis van het beheer van tekencurven
Matrixcorrectie en storingscorrectie
Er is een module voor energiebeheer
Kwaliteitscontrolerende standaard en management
Inspectie van de staat van het systeem
Beheer van data-uitvoer
Gecontroleerde Leverancier 
Gecontroleerde Leverancier 
