Startpaginaarrow-rightChina Fabriek Indexarrow-rightkeramische sputterende doelen fabriekarrow-rightleverancierslijst
Filter
Categorie
Meer
Beheer Certificering
Meer
R&D-capaciteit
Jaaromzet
Aantal werknemers
Provincie & Regio
Meer
ongeveer keramische sputterende doelen
  • Technologische innovatie
  • Betrouwbare toeleveringsketens
  • Aanzienlijke productiemogelijkheden

keramische sputterende doelen90+ fabrieken geverifieerd

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Verstuur aanvraag
Poly-Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel/Zonne-Photovoltaïsche systemen

Poly-Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel/Zonne-Photovoltaïsche systemen

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Mono-Si Doel Monokristallijn Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel Zonne-energie Fotovoltaïsche Mobiele Telefoon

Mono-Si Doel Monokristallijn Silicium Keramisch Doel voor Sputteren Doel Zonne-energie Fotovoltaïsche Mobiele Telefoon

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Doel Strontium Ruthenaat Keramisch Sputterdoel voor Optische Dunne Film Coating

SrRuO3 Doel Strontium Ruthenaat Keramisch Sputterdoel voor Optische Dunne Film Coating

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoogzuivere Znse keramische sputterdoelstelling

Hoogzuivere Znse keramische sputterdoelstelling

US$ 50,00-100,00
1 Stuk(MOQ)
Keramische Materialen 99.9% Mgb2 Sputterdoelen Magnesiumdiboride Doel voor Coating

Keramische Materialen 99.9% Mgb2 Sputterdoelen Magnesiumdiboride Doel voor Coating

US$ 110,00-120,00
1 Stuk(MOQ)
Keramisch sputterdoel Tungstentrioxide Wo3 sputterdoel

Keramisch sputterdoel Tungstentrioxide Wo3 sputterdoel

US$ 50,00-100,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogzuivere ZnO keramische sputterdoel voor optische dunne filmdepositie

Hoogzuivere ZnO keramische sputterdoel voor optische dunne filmdepositie

US$ 110,00-120,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Verstuur aanvraag
Al2O3-Zro2 Keramisch Doel Zta Zirkonia Versterkte Alumina Spuitdoel

Al2O3-Zro2 Keramisch Doel Zta Zirkonia Versterkte Alumina Spuitdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Hfc Doelen Hafniumcarbide Keramische Sputterdoelen

99.99% Hfc Doelen Hafniumcarbide Keramische Sputterdoelen

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Izo keramisch doel Indium Zink Oxide sputterdoel

99.95% Izo keramisch doel Indium Zink Oxide sputterdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Azo keramische doelen aluminium gedoteerd zinkoxide sputterdoelen voor PVD-coating

99.95% Azo keramische doelen aluminium gedoteerd zinkoxide sputterdoelen voor PVD-coating

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

Verstuur aanvraag
Siliciumcarbide-doel Sic 99.9% sputtercoating keramisch doel

Siliciumcarbide-doel Sic 99.9% sputtercoating keramisch doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Siliciumcarbide SiC hoogzuivere gecoate keramische doelwit magnetron sputteren verwerking maatwerk

Siliciumcarbide SiC hoogzuivere gecoate keramische doelwit magnetron sputteren verwerking maatwerk

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Hoge Zuiverheid 99.9%- 99.99% Ruo2 Doel, 1-10inch Ruthenium Dioxide Sputterdoel

Hoge Zuiverheid 99.9%- 99.99% Ruo2 Doel, 1-10inch Ruthenium Dioxide Sputterdoel

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Stuk(MOQ)
99.95% Hoogwaardige Tantalum Metaal Sputterdoel voor Dunne Film Coating

99.95% Hoogwaardige Tantalum Metaal Sputterdoel voor Dunne Film Coating

US$ 700,00-1.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Schijf Sputterdoel

Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Schijf Sputterdoel

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Lanthanum Hexaboride Lab6 keramische sputterdoel voor PVD dunne filmcoating

Lanthanum Hexaboride Lab6 keramische sputterdoel voor PVD dunne filmcoating

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Hoog Elektronemissiviteit Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Doelen

Hoog Elektronemissiviteit Lanthanum Hexaboride Lab6 Keramische Doelen

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
Sputterdoel Lanthanumboride Lab6 Keramische Schijf

Sputterdoel Lanthanumboride Lab6 Keramische Schijf

US$ 50,00-200,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Verstuur aanvraag
TMAXCN Merk 99.5% Sic Keramisch Doel Siliciumcarbide Sputterdoel voor Coating

TMAXCN Merk 99.5% Sic Keramisch Doel Siliciumcarbide Sputterdoel voor Coating

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
Bureau DC/RF Magnetron Sputtering Geleidende Coater Voor Metalen, Oxiden & Keramiek & Halfgeleiders

Bureau DC/RF Magnetron Sputtering Geleidende Coater Voor Metalen, Oxiden & Keramiek & Halfgeleiders

US$ 15.000,00
1 Stuk(MOQ)
TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid 99.5% Pure Boorcarbide B4c Keramische Sputterdoel

TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid 99.5% Pure Boorcarbide B4c Keramische Sputterdoel

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
TMAXCN Merk Hoge Dichtheid Zn2sno4 Zink Stannaat Sputterdoel Keramische Coating Materiaal

TMAXCN Merk Hoge Dichtheid Zn2sno4 Zink Stannaat Sputterdoel Keramische Coating Materiaal

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Vacuummetaaliserende zirkoniumdoelwit

Vacuummetaaliserende zirkoniumdoelwit

US$ 30,00-100,00
1 Stuk(MOQ)
PVD-coatingmachine voor alle materialen, metaal, glas, keramiek

PVD-coatingmachine voor alle materialen, metaal, glas, keramiek

Bespreekbaar
1 Set(MOQ)
Dagelijkse benodigdheden sieraden horloge PVD ionplatingmachine

Dagelijkse benodigdheden sieraden horloge PVD ionplatingmachine

US$ 8.000,00-59.000,00
1 Stuk(MOQ)
Kathodische Boog Ion Plating Vacuüm Coating Machine voor Sieraden, Horloge, Metaal

Kathodische Boog Ion Plating Vacuüm Coating Machine voor Sieraden, Horloge, Metaal

US$ 55.000,00-89.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Boron-nitride sputterdoel, verdampingsboten van boron-nitride, keramische elektrische kruik van boron-nitride

Boron-nitride sputterdoel, verdampingsboten van boron-nitride, keramische elektrische kruik van boron-nitride

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Titanium-Diboride (TiB2) sputterdoelen keramische plaat

Titanium-Diboride (TiB2) sputterdoelen keramische plaat

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 keramische sputterdoel titaniumdiboride

Tib2 keramische sputterdoel titaniumdiboride

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

2 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Hoogwaardige Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Sputterdoel voor Coatingtoepassingen

Hoogwaardige Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Sputterdoel voor Coatingtoepassingen

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Puur Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Coating Sputtering Doel voor Hoge Kwaliteit Coating

Puur Tungsten Disulfide Ws2 Keramische Coating Sputtering Doel voor Hoge Kwaliteit Coating

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
Verstuur aanvraag
Aluminium Pellets API-625 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

Aluminium Pellets API-625 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Ton(MOQ)
Aluminium Pellets APP-512 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

Aluminium Pellets APP-512 Sputterdoel Hoogzuiver 99.999% op Voorraad

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Ton(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Verstuur aanvraag
Magnetron sputteren ruthenium doel hoogzuiver

Magnetron sputteren ruthenium doel hoogzuiver

US$ 32.000,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige siliciumcarbide doelmateriaal

Hoogwaardige siliciumcarbide doelmateriaal

US$ 15.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Hoge Precisie Tungsten Sputterdoel

4n Hoge Precisie Tungsten Sputterdoel

US$ 3.500,00
1 Stuk(MOQ)
Hoge Zuiverheid Koper Achterdoel Vacuüm Spuiten

Hoge Zuiverheid Koper Achterdoel Vacuüm Spuiten

US$ 2.200,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hoge kwaliteit Nickle ronde doel voor Sputtering Target

Hoge kwaliteit Nickle ronde doel voor Sputtering Target

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Hoogsmeltend Zirconium Ronde Sputterdoel Zr702

Hoogsmeltend Zirconium Ronde Sputterdoel Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Hoge hardheid gepolijste oppervlakte en hogere zuiverheid nikkel buisdoel

Hoge hardheid gepolijste oppervlakte en hogere zuiverheid nikkel buisdoel

US$ 30,00
10 Stukken(MOQ)
Goede thermische en elektrische geleidbaarheid pure rechte zirconium ronde staaf

Goede thermische en elektrische geleidbaarheid pure rechte zirconium ronde staaf

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
Verstuur aanvraag
Hoogwaardige sputtering titaniumdoelen prijs voor PVD-coating/Ti sputtering titaniumdoel/Ronde titaniumdoel te koop

Hoogwaardige sputtering titaniumdoelen prijs voor PVD-coating/Ti sputtering titaniumdoel/Ronde titaniumdoel te koop

US$ 80,00-300,00
1 Stuk(MOQ)
Auto Auto Wiel Chroom Magnetron Sputteren Vacuüm Coating Machine

Auto Auto Wiel Chroom Magnetron Sputteren Vacuüm Coating Machine

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Hoge Snelheid Magnetron Sputter Vacuüm Coating Machine voor Plastic Tafelgerei

Hoge Snelheid Magnetron Sputter Vacuüm Coating Machine voor Plastic Tafelgerei

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Hoge kwaliteit laag-E glas continue magnetron sputtercoatingmachine

Hoge kwaliteit laag-E glas continue magnetron sputtercoatingmachine

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Barium Titanate Batio3 Target, Barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratory Consumable

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
High-purity zinkoxide Aluminium (AZO) Target Material, zinkoxide (ZNO) dooped met aluminiumoxide (Al2O3) , magnetron Sputtering Oxide Target, Backplate Bonding

High-purity zinkoxide Aluminium (AZO) Target Material, zinkoxide (ZNO) dooped met aluminiumoxide (Al2O3) , magnetron Sputtering Oxide Target, Backplate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO (Indium Tin Oxide) doelmateriaal, Indium Tin Oxide Semiconductor transparante geleidende film, magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Tin Oxide) doelmateriaal, Indium Tin Oxide Semiconductor transparante geleidende film, magnetron Sputtering Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 jaar
·Fabrikant/fabriek
Verstuur aanvraag
Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

US$ 26.500,00
1 Stuk(MOQ)
Enkele Doel Magnetron Sputteren met Optische Vezel Winding Functie

Enkele Doel Magnetron Sputteren met Optische Vezel Winding Functie

US$ 28.000,00-29.500,00
1 set(MOQ)
Enkele Dubbele Drievoudige Doel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

Enkele Dubbele Drievoudige Doel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

US$ 60.000,00-61.200,00
1 set(MOQ)
Enkeldoel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

Enkeldoel Magnetron Spuitcoating met Film Dikte Monitor

US$ 18.000,00-19.200,00
1 set(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Boriumnitride (BN) Ceramic Nitride PVD Sputtering Target, Titanium Diboride, Titanium boride, Customized Size, Backing Plate Bonding

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Doelmateriaal van hoge zuiverheid Igzo (Indium Gallium Zinc Oxide) voor PVD-magnetron Sputtering vacuümcoating, onderzoek en experimenteel materiaal

Doelmateriaal van hoge zuiverheid Igzo (Indium Gallium Zinc Oxide) voor PVD-magnetron Sputtering vacuümcoating, onderzoek en experimenteel materiaal

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Barium Titanate Batio3 Target, barium Strontium Titanate Target Basrtio3, PVD magnetron Sputtering Target, Laboratorium Verbruiksartikelen, deeltjes, het lijmen van de backing

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Zirkonium-sputtering doel

Zirkonium-sputtering doel

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
ITO (tabletten) Sputtering Target

ITO (tabletten) Sputtering Target

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
Tiox Target

Tiox Target

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)
ITO-doel

ITO-doel

Bespreekbaar
5 Stukken(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

US$ 250,00-500,00
1 Stuk(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Keramische sputtering-targets

Keramische sputtering-targets

US$ 100,00
1 Stuk(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
ITO-sputtering-doel

ITO-sputtering-doel

US$ 20,00-1.000,00
1 Set(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

Verstuur aanvraag
Het Sputterende Doel van het Doel van het Osmium van de hoge Zuiverheid voor Industrie van de Dunne Film

Het Sputterende Doel van het Doel van het Osmium van de hoge Zuiverheid voor Industrie van de Dunne Film

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Verstuur aanvraag
Premium Duurzame Yttrium Sputterdoelen voor Elektronica Productie

Premium Duurzame Yttrium Sputterdoelen voor Elektronica Productie

US$ 115,00-130,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige Gadolinium Metaal Doel voor Industrieel Gebruik

Hoogwaardige Gadolinium Metaal Doel voor Industrieel Gebruik

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Premium Zwarte Gadolinium Sputterdoel voor Elektronica Productie

Premium Zwarte Gadolinium Sputterdoel voor Elektronica Productie

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Circulaire zeldzame aarde cerium sputterdoel voor halfgeleiderchip

Circulaire zeldzame aarde cerium sputterdoel voor halfgeleiderchip

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 jaar·5.0
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Topkwaliteit molybdeen doel molybdeen plaat

Topkwaliteit molybdeen doel molybdeen plaat

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Doel Molybdeen Sputterdoel Prijs

Mo1 Doel Molybdeen Sputterdoel Prijs

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Hoofdaanvoer Molybdeen Boot

Hoofdaanvoer Molybdeen Boot

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
Meest Populaire Molybdeen Boot

Meest Populaire Molybdeen Boot

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Stuk(MOQ)
Desktop RVS Cavity Enkeldoel Magnetron Sputter Coating Apparatuur

Desktop RVS Cavity Enkeldoel Magnetron Sputter Coating Apparatuur

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Stuk(MOQ)
Drie Target Magnetron Sputtercoater met Overgangskamer voor SEM Monster Voorbereiding

Drie Target Magnetron Sputtercoater met Overgangskamer voor SEM Monster Voorbereiding

US$ 68.200,00-70.000,00
1 Stuk(MOQ)
Dubbele bodemdoel DC magnetron sputtercoatingmachine met moleculaire pompsysteem

Dubbele bodemdoel DC magnetron sputtercoatingmachine met moleculaire pompsysteem

US$ 37.300,00-126.870,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Verstuur aanvraag
Azo Sputtering Target Aluminium Zinkoxide voor verdamping Thin-Film Optical Coating

Azo Sputtering Target Aluminium Zinkoxide voor verdamping Thin-Film Optical Coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Keramische sputtering doel in diverse vormen voor PVD-coating compound Doel

Keramische sputtering doel in diverse vormen voor PVD-coating compound Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Zeldzame aarde CEO2 99.95% keramische sputtering doel PVD Coating

Zeldzame aarde CEO2 99.95% keramische sputtering doel PVD Coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
5-200kw Typische sputterbron voor dunne filmcoatingindustrieën roterende magnetron sputterkatode roterend sputterdoel

5-200kw Typische sputterbron voor dunne filmcoatingindustrieën roterende magnetron sputterkatode roterend sputterdoel

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Roterende kathode, cilindrische buisdoel voor coatingmachine

Roterende kathode, cilindrische buisdoel voor coatingmachine

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
PVD Magnetron Spuitmachine voor Keramische Oppervlaktebehandeling

PVD Magnetron Spuitmachine voor Keramische Oppervlaktebehandeling

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
Hoge Precisie Magnetron Spuitcoatingmachine voor Metalen Glas Keramische Substraten

Hoge Precisie Magnetron Spuitcoatingmachine voor Metalen Glas Keramische Substraten

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit ITO Rotary Sputtering Doel 4n In2o3 en Sno2

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit ITO Rotary Sputtering Doel 4n In2o3 en Sno2

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Lage Dichtheid 4n ITO Kleine Ronde Doelstelling

Fabrieksprijs Verkoop Lage Dichtheid 4n ITO Kleine Ronde Doelstelling

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Zuiverheid ITO Doel voor Rpd 4n

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Zuiverheid ITO Doel voor Rpd 4n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit Igzo Metaal Doel 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indium Zink Gallium

Fabrieksprijs Verkoop Hoge Kwaliteit Igzo Metaal Doel 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indium Zink Gallium

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
99,999% Hoge Zuiverheid Monokristallijn Silicium Sputterdoelplaat / Silicium Keramisch Doel

99,999% Hoge Zuiverheid Monokristallijn Silicium Sputterdoelplaat / Silicium Keramisch Doel

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Azo Doel ZnO: Al2O3 Rotatiesputdoelen

4n Azo Doel ZnO: Al2O3 Rotatiesputdoelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
Aangepaste maat hoge zuiverheid koolstof grafiet sputterdoelen 99,99% bindkoperdoel

Aangepaste maat hoge zuiverheid koolstof grafiet sputterdoelen 99,99% bindkoperdoel

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Nbo2 Doel Niobiumoxide Rotatiedoelen Vlakke Doelen

4n Nbo2 Doel Niobiumoxide Rotatiedoelen Vlakke Doelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Het Doel van Stannate van het cadmium, de ZonneLaag van Tco van de Dunne Film CD-Te

Het Doel van Stannate van het cadmium, de ZonneLaag van Tco van de Dunne Film CD-Te

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Doel van Igzo, de Laag van Igzo van het Kanaal TFT, indium-gallium-Zink het Doel van het Oxyde

Het Doel van Igzo, de Laag van Igzo van het Kanaal TFT, indium-gallium-Zink het Doel van het Oxyde

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO Vlak Sputterend Doel, de Film van het Glas ITO, Doel tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO

ITO Vlak Sputterend Doel, de Film van het Glas ITO, Doel tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Roteerbare Nbox-doelstelling 99.95% Sputtering-doelstelling van hoge kwaliteit

Roteerbare Nbox-doelstelling 99.95% Sputtering-doelstelling van hoge kwaliteit

Bespreekbaar
2 Stukken(MOQ)
Rotary Tiox Target, voornamelijk toepassing voor Low-E Glass Coating, magnetron Sputtering Target, Titanium Oxide Target

Rotary Tiox Target, voornamelijk toepassing voor Low-E Glass Coating, magnetron Sputtering Target, Titanium Oxide Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Roterende Planar ITO Target, magnetron Sputtering Target, In2o3: Sno2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97: 3 ITO

Roterende Planar ITO Target, magnetron Sputtering Target, In2o3: Sno2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97: 3 ITO

Bespreekbaar
10 Kg(MOQ)
Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
14
Populaire producten
Coating Van De Machine
Apparatuur Voor Coating
Coating Systeem
Coating Van Machines
Plating-apparatuur
Vacuümtechnologie
Roestvrijstalen Plaatcoating
Roestvrijstalen Plaatcoatingmachine
Gerelateerde fabrikanten & Leverancier
Apparatuur Voor Vacuümcoating Fabriek
Filmcoatingmachine Fabriek
Keramische Coating Apparatuur Fabriek
Goudcoatingmachine Fabriek
Fabrikant Van Vacuümplating Machine
Fabrikant Van Vacuümcoatingmachine
Fabrikant Van Pvd Coating Machine
Fabrikant Van Tabletcoatingmachine
Over Ons Verklaring Gebruikersovereenkomst Privacybeleid Neem contact op met Made-in-China.com Topproducten Inzichten
Taal Opties: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Alle rechten voorbehouden
Focus is niet verantwoordelijk voor het inhoudelijke verschil van de website tussen de Engelse versie en andere taalversies. In geval van discrepantie tussen verschillende talenversies, zal de Engelse versie voorrang hebben . Door gebruik te maken van deze Website aanvaardt en erkent U zonder enig voorbehoud onze gebruiksvoorwaarden.