Startpaginaarrow-rightChina Fabriek Indexarrow-rightOxide Doel fabriekarrow-rightleverancierslijst
Filter
Categorie
Meer
Beheer Certificering
Meer
R&D-capaciteit
Jaaromzet
Meer
Aantal werknemers
Provincie & Regio
Meer
ongeveer Oxide Doel
  • Technologische innovatie
  • Betrouwbare toeleveringsketens
  • Aanzienlijke productiemogelijkheden

Oxide Doel500+ fabrieken geverifieerd

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Verstuur aanvraag
In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

In2O3+Cu Keramisch Doel Indiumoxide+Koper Keramisch Spuitdoel voor LCD/Touchpaneel

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
BaSnO Doel Barium Tin Oxide Keramiek Doel voor Optische Dunne Film Coating

BaSnO Doel Barium Tin Oxide Keramiek Doel voor Optische Dunne Film Coating

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Al2O3 Doel Aluminium Oxide Keramisch Doel voor Geïntegreerde Circuits

Al2O3 Doel Aluminium Oxide Keramisch Doel voor Geïntegreerde Circuits

US$ 135,00
1 Kg(MOQ)
V2O5 Doel Vanadiumoxide Keramisch Doel Voor LCD

V2O5 Doel Vanadiumoxide Keramisch Doel Voor LCD

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Hafniumoxide sputterdoel Hfo2/Zro2 voor magnetron sputteren, op maat gemaakte maten beschikbaar

Hafniumoxide sputterdoel Hfo2/Zro2 voor magnetron sputteren, op maat gemaakte maten beschikbaar

US$ 55,00-85,00
1 Stuk(MOQ)
Coating Materialen 99.99% Siliciumoxide Sio Keramisch Sputterdoel voor Laboratoriumonderzoek

Coating Materialen 99.99% Siliciumoxide Sio Keramisch Sputterdoel voor Laboratoriumonderzoek

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
Nio sputterdoel nikkeloxide sputterdoel voor PVD-coating

Nio sputterdoel nikkeloxide sputterdoel voor PVD-coating

US$ 200,00-1.000,00
1 Stuk(MOQ)
PVD-doel lithiumoxide verbinding doelronde Li2o sputterdoel voor sputteren

PVD-doel lithiumoxide verbinding doelronde Li2o sputterdoel voor sputteren

US$ 100,00-600,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Verstuur aanvraag
Cuo-In2o3 Keramische Doelen Koperoxide - Indiumoxide Spuitdoel

Cuo-In2o3 Keramische Doelen Koperoxide - Indiumoxide Spuitdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99 % Hoge Zuiverheid Gd2o3 Keramisch Doel Gadoliniumoxide Sputterdoel

99.99 % Hoge Zuiverheid Gd2o3 Keramisch Doel Gadoliniumoxide Sputterdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Hoge Zuiverheid 99.99% Zirkoniumoxide Keramische Doelen Zro2 Zirkoniumdioxide Sputterdoelen

Hoge Zuiverheid 99.99% Zirkoniumoxide Keramische Doelen Zro2 Zirkoniumdioxide Sputterdoelen

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
ATO keramische doelen antimoon gedoteerde tinoxide sputterdoel

ATO keramische doelen antimoon gedoteerde tinoxide sputterdoel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Verstuur aanvraag
Hoogwaardige Yttriumoxide Y2o3 sputterdoel voor geavanceerde coatings

Hoogwaardige Yttriumoxide Y2o3 sputterdoel voor geavanceerde coatings

US$ 115,00-130,00
1 Stuk(MOQ)
Premium Yttrium Barium Koper Oxide Sputterdoel Schijf voor Elektronica

Premium Yttrium Barium Koper Oxide Sputterdoel Schijf voor Elektronica

US$ 190,00-199,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige Ytterbiumoxide Sputterdoel voor Elektronica

Hoogwaardige Ytterbiumoxide Sputterdoel voor Elektronica

US$ 190,00-199,00
1 Stuk(MOQ)
Superieure Yttrium Sputterdoelen voor Geavanceerde Coatingoplossingen

Superieure Yttrium Sputterdoelen voor Geavanceerde Coatingoplossingen

US$ 115,00-130,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

DC RF Dual Target Magnetron Sputterdepositie voor Metaal- en Oxide Dunne Film

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Stuk(MOQ)
Drie Doel Boven Magnetron Spuitcoater Instrument voor Halfgeleiderfilms

Drie Doel Boven Magnetron Spuitcoater Instrument voor Halfgeleiderfilms

US$ 37.300,00-126.870,00
1 Stuk(MOQ)
Hoge Kosteneffectiviteit Drie Doelen Magnetron Sputter Coater (500W DC&500W RF)

Hoge Kosteneffectiviteit Drie Doelen Magnetron Sputter Coater (500W DC&500W RF)

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Stuk(MOQ)
Vierdoel Magnetron Spuitcoatingmachine voor Halfgeleider

Vierdoel Magnetron Spuitcoatingmachine voor Halfgeleider

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
99.99% Galliumoxide sputterdoel vlak doel Ga2o3 Doel

99.99% Galliumoxide sputterdoel vlak doel Ga2o3 Doel

US$ 300,00
1 Stuk(MOQ)
Plasma spuitcoating apparatuur anti-klevend slijtvast silicium aluminium alumina zirconia

Plasma spuitcoating apparatuur anti-klevend slijtvast silicium aluminium alumina zirconia

US$ 35.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Verstuur aanvraag
Indium Tin Oxide ITO Doel Vacuüm Spuiten PVD Creen Doel

Indium Tin Oxide ITO Doel Vacuüm Spuiten PVD Creen Doel

US$ 4.600,00
1 Stuk(MOQ)
ITO-doel Indium Tin Oxide-doel

ITO-doel Indium Tin Oxide-doel

US$ 7.800,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Spuitdoel Titanium Al Cu Chroom Ni Magnetronbuis Rotatie PVD Coating

Spuitdoel Titanium Al Cu Chroom Ni Magnetronbuis Rotatie PVD Coating

US$ 0,50-10,00
10 Stukken(MOQ)
Geanodiseerde aluminium CNC draaionderdelen precisie-machines

Geanodiseerde aluminium CNC draaionderdelen precisie-machines

US$ 0,50-10,00
10 Stukken(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Tinoxide (SnO2) Evapatiemateriaal Pellet 1-10mm zuiverheid 99.99% Sputtering Doel

Tinoxide (SnO2) Evapatiemateriaal Pellet 1-10mm zuiverheid 99.99% Sputtering Doel

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 jaar
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Europium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-53-1 EU 3n 4n

Europium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-53-1 EU 3n 4n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Yttrium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Yttrium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Gadolinium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-54-2 Gd 3n 4n

Gadolinium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-54-2 Gd 3n 4n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
Praseodymium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Praseodymium Metaal Doelstaaf Granulair CAS Nr 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Bespreekbaar
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Verstuur aanvraag
Guangdong Factory Copper Plate Indium tin Oxide ITO Sputtering targets

Guangdong Factory Copper Plate Indium tin Oxide ITO Sputtering targets

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fabriek Cu Sputtering Target Copper Rotary voor de met metaal gecoat geleider halfgeleider

Fabriek Cu Sputtering Target Copper Rotary voor de met metaal gecoat geleider halfgeleider

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% koperen plaat Sputtering Target Productie

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% koperen plaat Sputtering Target Productie

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
In de fabriek PVD-coating Cu-plaat Multi Arc Sputtering Target Copper Roterende halfgeleider

In de fabriek PVD-coating Cu-plaat Multi Arc Sputtering Target Copper Roterende halfgeleider

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 jaar
·Fabrikant/fabriek
Verstuur aanvraag
500W DC 300W RF Dual Target Magnetron Sputtercoater voor het sputteren van metalen en oxiden

500W DC 300W RF Dual Target Magnetron Sputtercoater voor het sputteren van metalen en oxiden

US$ 31.000,00-32.500,00
1 set(MOQ)
Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

Keramisch, Dielectrisch, Optisch, Oxide, Harde Film, PTFE Film RF Dubbele Doel Magnetron Spuitcoater

US$ 26.500,00
1 Stuk(MOQ)
4-Inch Magnetron Doel Enkel Doel DC Magnetron Spuitcoater voor Oxide Film

4-Inch Magnetron Doel Enkel Doel DC Magnetron Spuitcoater voor Oxide Film

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Dubbele Doel RF Magnetron Spuitcoating Vacuüm PVD Coating Machine voor Halfgeleiderfilms

Dubbele Doel RF Magnetron Spuitcoating Vacuüm PVD Coating Machine voor Halfgeleiderfilms

US$ 26.500,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

Verstuur aanvraag
Igh Zuiverheid 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Ruthenium Oxide Doel

Igh Zuiverheid 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Ruthenium Oxide Doel

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Stuk(MOQ)
Hoogzuiver 99.99% & 99.999% Tungsten Sputterdoel voor Dunne Film Coating, Wolfram

Hoogzuiver 99.99% & 99.999% Tungsten Sputterdoel voor Dunne Film Coating, Wolfram

US$ 100,00-300,00
1 kilograms(MOQ)
99.99% Puur Wolfraam Metaal Materiaal 4n Wolfraam W Sputterdoel

99.99% Puur Wolfraam Metaal Materiaal 4n Wolfraam W Sputterdoel

US$ 200,00
1 Stuk(MOQ)
99.999% Aangepaste Kromme Tungsten Doel, 5n Tungsten Sputterdoel

99.999% Aangepaste Kromme Tungsten Doel, 5n Tungsten Sputterdoel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

ITO (Indium Tin Oxide) Target Material, Indium Tin Oxide Semiconductor Transparent Conductive Film, magnetron Sputtering Target, Customized Specifications

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Doelmateriaal van zinkoxide met hoge zuiverheid, zinkoxide (ZNO), gedoopt met aluminiumoxide (Al2O3), magnetron-sputteroxide-target, backplate-hechting.

Doelmateriaal van zinkoxide met hoge zuiverheid, zinkoxide (ZNO), gedoopt met aluminiumoxide (Al2O3), magnetron-sputteroxide-target, backplate-hechting.

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Ytterbium Oxide doelmateriaal Yb2o3, Wetenschappelijk Onderzoek Experimenteel Materiaal, Sputtering Coating, Evaporatie Coating, Semiconductor

Ytterbium Oxide doelmateriaal Yb2o3, Wetenschappelijk Onderzoek Experimenteel Materiaal, Sputtering Coating, Evaporatie Coating, Semiconductor

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Warmtebestendigheid Sterkte en Taaiheid Titanium Ronde Doel

Warmtebestendigheid Sterkte en Taaiheid Titanium Ronde Doel

US$ 10,00
5 Stukken(MOQ)
Titanium Anode Sheet volgens de tekening van de klant

Titanium Anode Sheet volgens de tekening van de klant

US$ 30,00
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Aluminium brokken blokken metaal aluminium sputterdoel voor laboratoriumonderzoek

Aluminium brokken blokken metaal aluminium sputterdoel voor laboratoriumonderzoek

US$ 2.960,00
1 Ton(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium barium Koper Oxide Sputtering Target

US$ 250,00-500,00
1 Stuk(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 jaar·5.0
·Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Magnesiumoxide (MGO) sputterdoelpoederpellet CAS1309-48-4

Magnesiumoxide (MGO) sputterdoelpoederpellet CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Ton(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Tantalum Borddoel voor Geavanceerde Materiaalwetenschap en Onderzoeksapplicaties

Tantalum Borddoel voor Geavanceerde Materiaalwetenschap en Onderzoeksapplicaties

Bespreekbaar
10 Kg(MOQ)
Tantalum Borddoel voor Innovatief Onderzoek en Ontwikkelingsprojecten

Tantalum Borddoel voor Innovatief Onderzoek en Ontwikkelingsprojecten

Bespreekbaar
10 Kg(MOQ)
Hoogwaardige Tantalum Plaatdoel voor Luchtvaart- en Defensie-toepassingen

Hoogwaardige Tantalum Plaatdoel voor Luchtvaart- en Defensie-toepassingen

Bespreekbaar
10 Kg(MOQ)
Tantalum Borddoel voor Precisiebewerking en Geavanceerde Toepassingen

Tantalum Borddoel voor Precisiebewerking en Geavanceerde Toepassingen

Bespreekbaar
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 jaar·5.0
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Molybdeen Doel voor Vacuüm Spuitcoating

Molybdeen Doel voor Vacuüm Spuitcoating

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
99.95% Puur Molybdeen (Mo) Tray, Molyblad, Mo Plaat voor Ovenconstructie

99.95% Puur Molybdeen (Mo) Tray, Molyblad, Mo Plaat voor Ovenconstructie

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Puur tungsten plaat voor saffierkristalgroei

99.95% Puur tungsten plaat voor saffierkristalgroei

US$ 30,00
1 Kg(MOQ)
Molybdeen Schijf Sputterdoelen

Molybdeen Schijf Sputterdoelen

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Siliconen doel Si schijf monokristallijn silicium stuk

Siliconen doel Si schijf monokristallijn silicium stuk

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Siliciumdoel Si polysilicium stuk

Siliciumdoel Si polysilicium stuk

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
5n 99.999% Puur Si Silicium Monokristallijn Stuk

5n 99.999% Puur Si Silicium Monokristallijn Stuk

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Optisch vacuümcoatingmateriaal silicium Si korrel

Optisch vacuümcoatingmateriaal silicium Si korrel

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Verstuur aanvraag
Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Galliumoxide-sputtering doel Ga2o3 zuiverheid 99.99% 4n

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Sputtering doel ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% voor Optisch Coating

Sputtering doel ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% voor Optisch Coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Ferrosoxide Feo 4n Sputtering Target voor PVD-coating

Ferrosoxide Feo 4n Sputtering Target voor PVD-coating

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Doel van de legering van hoge zuiverheid 99.99% 4n Nio-nikkeloxide voor Dunne-film optische coating PVD-verdamping

Doel van de legering van hoge zuiverheid 99.99% 4n Nio-nikkeloxide voor Dunne-film optische coating PVD-verdamping

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
4n TiO2 Doel Titaniumoxide Rotatiedoelen/Vlakke Doelen

4n TiO2 Doel Titaniumoxide Rotatiedoelen/Vlakke Doelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Nbo2 Doel Niobiumoxide Rotatiedoelen Vlakke Doelen

4n Nbo2 Doel Niobiumoxide Rotatiedoelen Vlakke Doelen

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
Titaniumoxide ronde doelen met 99,99% zuiverheid

Titaniumoxide ronde doelen met 99,99% zuiverheid

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)
4n Nbo2 Doel Rotatie Doelen voor Vacuüm Coating

4n Nbo2 Doel Rotatie Doelen voor Vacuüm Coating

US$ 200,00-10.000,00
1 Stuk(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Verstuur aanvraag
Rotary Tiox Target, voornamelijk toepassing voor Low-E Glass Coating, magnetron Sputtering Target, Titanium Oxide Target

Rotary Tiox Target, voornamelijk toepassing voor Low-E Glass Coating, magnetron Sputtering Target, Titanium Oxide Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Lijm ITO doelplaat Indium-tine-oxide Sputtering doel 99.99% 4n keramische target.

Lijm ITO doelplaat Indium-tine-oxide Sputtering doel 99.99% 4n keramische target.

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
99.99% ITO-doelstelling 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide Sputtering doel voor geleidende film

99.99% ITO-doelstelling 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide Sputtering doel voor geleidende film

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Roteerbare Zrox Target, Nieuw product gemaakt door Plasma Spray, magnetron Sputtering Target, Zirconium Oxide Target

Roteerbare Zrox Target, Nieuw product gemaakt door Plasma Spray, magnetron Sputtering Target, Zirconium Oxide Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Verstuur aanvraag
RF&DC&MF Dubbele Doel PVD Spuitcoating Apparatuur Voor Geleidende Multilaagfilms

RF&DC&MF Dubbele Doel PVD Spuitcoating Apparatuur Voor Geleidende Multilaagfilms

US$ 45.000,00
1 Stuk(MOQ)
Veelzijdig hoogvacuüm magnetron sputteringssysteem met meerdere doelen voor de afzetting van samengestelde multilagenfilms

Veelzijdig hoogvacuüm magnetron sputteringssysteem met meerdere doelen voor de afzetting van samengestelde multilagenfilms

US$ 50.000,00
1 Stuk(MOQ)
TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid PVD Coating Materialen Tungstenoxide Wo3 Sputterdoel

TMAXCN Merk Hoge Zuiverheid PVD Coating Materialen Tungstenoxide Wo3 Sputterdoel

US$ 78,00-90,00
1 Stuk(MOQ)
Laboratorium Auto Magnetron Sputter Coater Voor Metaal, Oxide en Halfgeleider Dunne Films in SEM, Energie Materialen

Laboratorium Auto Magnetron Sputter Coater Voor Metaal, Oxide en Halfgeleider Dunne Films in SEM, Energie Materialen

US$ 30.000,00
1 Stuk(MOQ)
1/4

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Verstuur aanvraag
ITO aanpasbare grootte 99.99% Indium Tin Oxide roterende ITO-keramiek Sputtering doel

ITO aanpasbare grootte 99.99% Indium Tin Oxide roterende ITO-keramiek Sputtering doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
99.95% GZO Gallium Zin Oxide Sputtering GZO Target Sheet Plates GZO-sputtering-doel

99.95% GZO Gallium Zin Oxide Sputtering GZO Target Sheet Plates GZO-sputtering-doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
99.9% Tiox Titanium Oxide Rotary Target Sputtering Target PVD vacuüm Coating titanium oxide Tiox Sputtering Target

99.9% Tiox Titanium Oxide Rotary Target Sputtering Target PVD vacuüm Coating titanium oxide Tiox Sputtering Target

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
99.99% Nbox-obiumoxide roterend doelpaneel met hoge zuiverheid Coating materiaal roterende roterende sputtering doel

99.99% Nbox-obiumoxide roterend doelpaneel met hoge zuiverheid Coating materiaal roterende roterende sputtering doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Able Target Limited

Verstuur aanvraag
Sputterende Doelstellingen

Sputterende Doelstellingen

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
De Sputterende Doelstellingen van Gdbacuox en Ybacuox Sputterende Doelstellingen, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

De Sputterende Doelstellingen van Gdbacuox en Ybacuox Sputterende Doelstellingen, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Sputterend Doel, Al2O3/Aluminum Oxyde, het Oxyde van het Zink van het Aluminium Al2O3/ZnO/Azo

Sputterend Doel, Al2O3/Aluminum Oxyde, het Oxyde van het Zink van het Aluminium Al2O3/ZnO/Azo

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Sputterende Doel van de zeldzame aarde

Het Sputterende Doel van de zeldzame aarde

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Verstuur aanvraag
ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

ITO Doel, ITO Roterend Doel, het Doel ITO van Tp Tn Stn tft-LCD

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Doel van ATO, ATO van de Film van het Venster van IRL, het Doel van het Oxyde van het Tin van het Antimonium

Het Doel van ATO, ATO van de Film van het Venster van IRL, het Doel van het Oxyde van het Tin van het Antimonium

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
ITO Vlak Sputterend Doel, de Film van het Glas ITO, Doel tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO

ITO Vlak Sputterend Doel, de Film van het Glas ITO, Doel tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het Doel van het Oxyde van het indium, Doel In2o3

Het Doel van het Oxyde van het indium, Doel In2o3

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Verstuur aanvraag
ITO Doel In2o3: Sno2=90: vlak Sputterend Doel 10wt%/ITO

ITO Doel In2o3: Sno2=90: vlak Sputterend Doel 10wt%/ITO

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Bi2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bi2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Het azo Sputterende Doel van het Oxyde van het Zink van het Aluminium van het Doel

Het azo Sputterende Doel van het Oxyde van het Zink van het Aluminium van het Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Al2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Al2O3 Ceramisch Sputterend Doel

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 jaar
·Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf
Verstuur aanvraag
Grote schaal batchproductiecoater met meerdere kathode-doelwitten Ar-coatingmachine

Grote schaal batchproductiecoater met meerdere kathode-doelwitten Ar-coatingmachine

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Hoogwaardige transparante geleiderfilmcoater met ITO-doel Ar-coatingmachine

Hoogwaardige transparante geleiderfilmcoater met ITO-doel Ar-coatingmachine

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Hoge Snelheid Productie Coatingmachine met Snelle Cyclus Tijd Ar Coatingmachine

Hoge Snelheid Productie Coatingmachine met Snelle Cyclus Tijd Ar Coatingmachine

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
Precisie Optisch Film Coater met Geavanceerde Plasma Reiniging Ar Coating Machine

Precisie Optisch Film Coater met Geavanceerde Plasma Reiniging Ar Coating Machine

Bespreekbaar
1 Stuk(MOQ)
1/4
117
Over Ons Verklaring Gebruikersovereenkomst Privacybeleid Neem contact op met Made-in-China.com Topproducten Inzichten
Taal Opties: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Alle rechten voorbehouden
Focus is niet verantwoordelijk voor het inhoudelijke verschil van de website tussen de Engelse versie en andere taalversies. In geval van discrepantie tussen verschillende talenversies, zal de Engelse versie voorrang hebben . Door gebruik te maken van deze Website aanvaardt en erkent U zonder enig voorbehoud onze gebruiksvoorwaarden.